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1. (WO2013144911) DUAL RESPONSIVE BLOCK COPOLYMER COMPOSITIONS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/144911    International Application No.:    PCT/IB2013/052528
Publication Date: 03.10.2013 International Filing Date: 29.03.2013
IPC:
C08L 53/00 (2006.01), C08F 297/08 (2006.01), C08G 81/02 (2006.01), C08F 220/00 (2006.01)
Applicants: KIMBERLY-CLARK WORLDWIDE, INC. [US/US]; Neenah, WI 54956 (US)
Inventors: BUNYARD, William, Clayton; (US).
LONG, Timothy, E.; (US).
SMITH, Adam, E.; (US).
CHENG, Shijing; (US).
HEMP, Sean, T.; (US)
Agent: FIELDHACK, Randall, W.; 2300 Winchester Road Neenah, WI 54956 (US)
Priority Data:
61/618,094 30.03.2012 US
13/851,186 27.03.2013 US
Title (EN) DUAL RESPONSIVE BLOCK COPOLYMER COMPOSITIONS
(FR) COMPOSITIONS DE COPOLYMÈRE À BLOCS À DOUBLE SENSIBILITÉ
Abstract: front page image
(EN)A composition includes a responsive block copolymer, the responsive block copolymer including at least one block A that is a triggerable copolymer, the triggerable copolymer including at least one lower critical solution temperature monomer and at least one charged monomer, wherein the triggerable copolymer block A is a dual trigger block configured to trigger on temperature and ionic strength, and wherein the responsive block copolymer micellizes or gels at a temperature between 28 °C and 37 °C and a salt concentration of about 0.9 wt%.
(FR)La présente invention a trait à une composition qui inclut un copolymère à blocs sensible, le copolymère à blocs sensible incluant au moins un bloc A qui est un copolymère à déclenchement, le copolymère à déclenchement incluant au moins un monomère à température de solution critique inférieure et au moins un monomère chargé, lequel bloc A de copolymère à déclenchement est un bloc à double déclenchement conçu pour se déclenchemer à la température et à la force ionique, et lequel copolymère à blocs sensible forme des micelles ou un gel à une température comprise entre 28 °C et 37 °C et à une concentration saline d'environ 0,9 % en poids.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)