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1. (WO2013143719) PROCESS CONTROL METHOD AND APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2013/143719 International Application No.: PCT/EP2013/051760
Publication Date: 03.10.2013 International Filing Date: 30.01.2013
IPC:
G05B 17/02 (2006.01) ,G06F 17/50 (2006.01)
Applicants: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT[DE/DE]; Wittelsbacherplatz 2 80333 München, DE
Inventors: HARTMANN, Dirk; DE
Priority Data:
10 2012 204 803.026.03.2012DE
Title (EN) PROCESS CONTROL METHOD AND APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF POUR LA COMMANDE DE PROCESSUS
(DE) VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR PROZESSSTEUERUNG
Abstract: front page image
(EN) Process control method and apparatus in a physical process running in a predefined process area (PR), having the steps of: (a) discretizing (S1) the physical process by means of particle-based domain decomposition of the process area (PR) into a plurality of partial volumes (VT) in which one particle (P) replaces a multiplicity of objects interacting within the particular partial volume in each case and constitutes a first process parameter (PP1) of the process; (b) calculating (S2) a second process parameter (PP2) dependent on the first process parameter (PP1) at least for the inner particles (Pi) of the process area (PR) by means of LME approximation and calculating the second process parameter (PP2) for the outer particles (Pa) of the process area (PR) by means of MLS approximation on the basis of the second process parameter (PP2) calculated for the inner particles Pi of the process area (PR); (c) calculating (S3) an interaction variable (IG) at least for the inner particles (Pi) of the process area (PR) on the basis of the second process parameter (PP2) calculated in each case for the outer particles (Pa) of the process area (PR) by means of LME approximation and the interaction variables (IG) for the outer particles (Pa) of the process area (PR) by means of MLS approximation on the basis of the interaction variables (IG) calculated for the inner particles (Pi); (d) calculating (S4) at least one control variable (SG) for controlling the physical process in the process area (PR) on the basis of the interaction variables (IG) calculated for the inner and outer particles (Pi,Pa); and (e) setting (S5) a target process parameter (ZPP) for the physical process by means of the calculated control variable (SG).
(FR) L'invention concerne un procédé et un dispositif pour la commande de processus dans le cas d'un processus physique, qui se déroule dans une chambre de processus (PR) défini, comprenant les étapes : (a) discrétisation (S1) du processus physique par une décomposition de la zone, sur la base des particules, de la chambre de processus (PR) en plusieurs volumes partiels (VT), dans lesquels à chaque fois une particule (P) remplace une pluralité d'objets qui interagissent dans le volume partiel et représente un premier paramètre (PP1) du processus; (b) calcul (S2) d'un deuxième paramètre de processus (PP2) dépendant du premier paramètre de processus (PP1), au moins pour les particules internes (Pi) de la chambre de processus (PR) au moyen de l'approximation LME et calcul du deuxième paramètre de processus (PP2) pour les particules externes (Pa) de la chambre de processus (PR) au moyen de l'approximation MLS sur la base du deuxième paramètre de processus (PP2) calculé pour les particules internes Pi de la chambre de processus (PR); (c) calcul (S3), au moyen de l'approximation LME, d'une grandeur d'interaction (IG) au moins pour les particules internes (Pi) de la chambre de processus (PR) en fonction du deuxième paramètre de processus (PP2) à chaque fois calculé pour les particules externes (Pa) de la chambre de processus (PR) et calcul des grandeurs d'interaction (IG) pour les particules externes (Pa) de la chambre de processus (PR) au moyen de l'approximation MLS sur la base des grandeurs d'interaction (IG) calculées pour les particules internes (Pi); (d) calcul (S4) d'au moins une grandeur de commande (SG) pour la commande du processus physique dans la chambre de processus (PR) en fonction des grandeurs d'interaction (IG) calculées pour les particules internes et externes (Pi, Pa); et (e) réglage (S5) d'un paramètre de processus cible (ZPP) du processus physique au moyen de la grandeur de commande calculée (SG).
(DE) Verfahren und Vorrichtung zur Prozesssteuerung bei einem physikalischen Prozess, der in einem vorgegebenen Prozessraum (PR) abläuft, mit den Schritten: (a) Diskretisieren (S1) des physikalischen Prozesses durch partikelbasierte Gebietszerlegung des Prozessraumes (PR) in mehrere Teilvolumina (VT), in denen jeweils ein Partikel (P) eine Vielzahl innerhalb des jeweiligen Teilvolumens interagierender Objekte ersetzt und einen ersten Prozessparameter (PP1) des Prozesses darstellt; (b) Berechnen (S2) eines von dem ersten Prozessparameter (PP1) abhängigen zweiten Prozessparameters (PP2) zumindest für die inneren Partikel (Pi) des Prozessraumes (PR) mittels LME-Approximation und Berechnen des zweiten Prozessparameters (PP2) für die äußeren Partikel (Pa) des Prozessraumes (PR) mittels MLS-Approximation auf Basis der für die inneren Partikel Pi des Prozessraumes (PR) berechneten zweiten Prozessparameters (PP2); (c) Berechnen (S3) einer Interaktionsgröße (IG) zumindest für die inneren Partikel (Pi) des Prozessraumes (PR) in Abhängigkeit von dem für die äußeren Partikel (Pa) des Prozessraumes (PR) jeweils berechneten zweiten Prozessparameter (PP2) mittels LME-Approximation und der Interaktionsgrößen (IG) für die äußeren Partikel (Pa) des Prozessraumes (PR) mittels MLS-Approximation auf Basis der für die inneren Partikel (Pi) berechneten Interaktionsgrößen (IG); (d) Berechnen (S4) mindestens einer Steuergröße (SG) zur Steuerung des physikalischen Prozesses in dem Prozessraum (PR) in Abhängigkeit der für die inneren und äußeren Partikel (Pi, Pa) berechneten Interaktionsgrößen (IG); und (e) Einstellen (S5) eines Zielprozessparameters (ZPP) des physikalischen Prozesses mittels der berechneten Steuergröße (SG).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)