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1. (WO2013143309) BLACK MATRIX PREPARATION METHOD, COLOR FILTER AND DISPLAY DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/143309    International Application No.:    PCT/CN2012/085283
Publication Date: 03.10.2013 International Filing Date: 26.11.2012
IPC:
G03F 7/00 (2006.01), G02F 1/1335 (2006.01), G02B 5/20 (2006.01)
Applicants: BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No. 10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District Beijing 100015 (CN)
Inventors: LU, Jinbo; (CN).
ZHANG, Zhuo; (CN).
ZHAO, Jisheng; (CN).
LI, lin; (CN)
Agent: LIU, SHEN & ASSOCIATES; A0601, Huibin Building, No.8 Beichen Dong Street Chaoyang District Beijing 100101 (CN)
Priority Data:
201210082967.X 26.03.2012 CN
Title (EN) BLACK MATRIX PREPARATION METHOD, COLOR FILTER AND DISPLAY DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE PRÉPARATION DE MASQUE NOIR, FILTRE DE COULEUR ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(ZH) 黑矩阵的制作方法、彩色滤光片及显示装置
Abstract: front page image
(EN)A preparation method of a black matrix used for a color filter and a display device. The preparation method of the black matrix comprises: adding first liquid in photoresist for the black matrix, and performing ultrasonic oscillation, so as to form photoresist emulsion for the black matrix, and multiple liquid drops of the first liquid dispersing in the photoresist emulsion for the black matrix; coating a layer of photoresist emulsion for the black matrix on a substrate; performing first heat treatment on the substrate coated with the photoresist emulsion for the black matrix, so that the multiple liquid drops of the first liquid in the photoresist emulsion for the black matrix are evaporated, so as to form a black matrix thin film layer comprising multiple micro-pores on the substrate; and using a mask template to expose the black matrix thin film layer, and after development and second heat treatment, forming a pattern of the black matrix on the substrate.
(FR)Un procédé de préparation d'un masque noir utilisé pour un filtre de couleur et un dispositif d'affichage. Le procédé de préparation du masque noir comprend : l'ajout d'un premier liquide dans une photorésine pour le masque noir et l'exécution d'une oscillation à ultrasons de manière à former une émulsion de résine photosensible pour le masque noir et plusieurs gouttes de liquide du premier liquide de dispersion dans l'émulsion de résine photosensible pour le masque noir ; le revêtement d'une couche d'émulsion de résine photosensible pour le masque noir sur un substrat ; l'exécution d'un premier traitement thermique sur le substrat revêtu avec l'émulsion de résine photosensible pour le masque noir, de sorte que la pluralité des gouttes de liquide du premier liquide dans l'émulsion de résine photosensible pour le masque noir s'évaporent, de manière à former une fine couche de film de masque noir comprenant de multiples micro-pores sur le substrat ; et l'utilisation d'un modèle de masque pour exposer la couche de film mince de masque noir et après le développement et un deuxième traitement thermique, former un motif de masque noir sur le substrat.
(ZH)一种用于彩色滤光片及显示装置的黑矩阵的制作方法,所述黑矩阵的制作方法包括:在黑矩阵用光刻胶中加入第一液体并进行超声波振荡以形成乳液状的黑矩阵用光刻胶,所述乳液状的黑矩阵用光刻胶中分散有多个第一液体的液滴;在基板上涂覆一层所述乳液状的黑矩阵用光刻胶;对涂覆有上述乳液状的黑矩阵用光刻胶的基板进行第一热处理,使得乳液状的黑矩阵用光刻胶中的多个第一液体被蒸发,从而在基板上形成包含多个微孔的黑矩阵薄膜层;以及采用掩模板对所述黑矩阵薄膜层进行曝光,并经显影和第二热处理后,从而在所述基板上形成所述黑矩阵图案。
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Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)