(EN) The amounts of the impurity elements Al, Si, Zr, Ca, and Y in this Li-containing transition metal oxide sintered body are kept to the following ranges: 90 ppm or less Al, 100 ppm or less Si, 100 ppm or less Zr, 80 ppm or less Ca, and 20 ppm or less Y. The Li-containing transition metal oxide sintered body maintains a relative density of at least 95%, and a resistivity of less than 2×107 Ωcm. According to the present invention, a Li-containing transition metal oxide thin film that is useful as a positive-electrode thin film for a secondary cell or the like can be formed stably and rapidly without any irregular discharge.
(FR) Les quantités des éléments d'impuretés Al, Si, Zr, Ca, et Y dans ce corps fritté d'oxyde métallique de transition contenant du Li sont maintenues dans les plages suivantes : 90 ppm ou moins d'Al, 100 ppm ou moins de Si, 100 ppm ou moins de Zr, 80 ppm ou moins de Ca, et 20 ppm ou moins de Y. Le corps fritté d'oxyde métallique de transition contenant du Li maintient une densité relative d'au moins 95 %, et une résistivité inférieure à 2 × 107 Ωcm. Selon la présente invention, un film mince d'oxyde métallique de transition contenant du Li, qui est utile en tant que film mince d'électrode positive pour une cellule secondaire ou analogue peut être formé de manière stable et rapide, sans aucune décharge irrégulière.
(JA) 本発明のＬｉ含有遷移金属酸化物焼結体は、不純物元素であるＡｌ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｃａ、およびＹが、Ａｌ≦９０ｐｐｍ、Ｓｉ≦１００ｐｐｍ、Ｚｒ≦１００ｐｐｍ、Ｃａ≦８０ｐｐｍ、Ｙ≦２０ｐｐｍの範囲に抑制されており、且つ、相対密度９５％以上、および比抵抗２×１０7Ωｃｍ未満を満足するものである。本発明によれば、二次電池などの正極薄膜として有用なＬｉ含有遷移金属酸化物薄膜を、異常放電が発生することなく安定して、高い成膜速度で成膜することができる。