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1. (WO2013125723) LIGHTING METHOD AND MICROSCOPIC OBSERVATION DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/125723    International Application No.:    PCT/JP2013/054821
Publication Date: 29.08.2013 International Filing Date: 25.02.2013
IPC:
G02B 21/06 (2006.01), G01N 21/956 (2006.01), H01L 21/66 (2006.01)
Applicants: THE UNIVERSITY OF TOKYO [JP/JP]; 3-1, Hongo 7-chome, Bunkyo-ku, Tokyo 1138654 (JP) (For All Designated States Except US).
NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION SHIZUOKA UNIVERSITY [JP/JP]; 836, Ohya, Suruga-ku, Shizuoka-shi, Shizuoka 4228529 (JP) (For All Designated States Except US).
TAKAHASHI, Satoru [JP/JP]; (JP) (US only).
TAKAMASU, Kiyoshi [JP/JP]; (JP) (US only).
KUDO, Ryota [JP/JP]; (JP) (US only).
USUKI, Shin [JP/JP]; (JP) (US only)
Inventors: TAKAHASHI, Satoru; (JP).
TAKAMASU, Kiyoshi; (JP).
KUDO, Ryota; (JP).
USUKI, Shin; (JP)
Agent: ITEC INTERNATIONAL PATENT FIRM; Gotanda Daiichiseimei Bldg., 19-3, Nishigotanda 2-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1410031 (JP)
Priority Data:
2012-039261 24.02.2012 JP
Title (EN) LIGHTING METHOD AND MICROSCOPIC OBSERVATION DEVICE
(FR) PROCÉDÉ D'ÉCLAIRAGE ET DISPOSITIF D'OBSERVATION MICROSCOPIQUE
(JA) 照明方法および顕微観察装置
Abstract: front page image
(EN)Illumination of a sample surface (23) is carried out by standing waves which are generated by generating two-beam planar waves (41, 51) using light from a light source unit (30) by means of planar wave lighting units (40, 50) for standing waves and by making the two-beam planar waves (41, 51) that have been generated interfere on the sample surface (23). Furthermore, bias planar waves (61) are generated by a bias planar wave lighting unit (60) using light from the light source unit (30) and lighting of the sample surface (23) is carried out by the bias planar waves (61) that are generated, said bias planar waves: being synchronized with the standing waves so that, with a reference time at which the value for electric field displacement of the standing waves at each position on the sample surface (23) is 0 being made a boundary, the electric field displacement of the standing waves swing alternately to the positive side and negative side with the same displacement regardless of the positions on the sample surface (23); and oscillating at a bias amplitude (amplitude of a value (2A) identical with the standing wave), which is determined in advance as an amplitude that increases the standing wave electric field displacement until the displacement is either on the positive side only or the negative side only on the sample surface (23).
(FR)L'éclairage de la surface d'un échantillon (23) est effectuée par ondes stationnaires qui sont générées par génération d'ondes plane à deux faisceaux (41, 51) à l'aide de lumière provenant d'une unité de source de lumière (30) au moyen d'unités d'éclairage à onde plane (40 ,50) pour des ondes stationnaires et en rendant le faisceau d'ondes planes (41, 51) qui ont été générées interférer sur la surface de l'échantillon (23). En Outre, des ondes planes de polarisation (61) sont générés par une unité d'éclairage (60) à l'aide de la lumière à partir de l'unité de source de lumière (30) et l'éclairage de la surface de l'échantillon (23) est effectuée par la polarisation des ondes planes qui sont générées, (61) ladite sollicitation des ondes planes étant synchronisée avec l'étape consistant à : être synchronisées avec les ondes stationnaires, de telle sorte que, avec un temps de référence au niveau duquel la valeur de déplacement de champ électrique des ondes stationnaires au niveau de chaque position sur la surface de l'échantillon (23) est de 0 étant constitué d'une limite, les déplacements de champ électrique des ondes stationnaires d'excursion positive et côté négatif avec le même déplacement indépendamment des positions sur la surface de l'échantillon (23) ; et oscillant à une amplitude de polarisation (amplitude d'une valeur (2A) identique à l'onde stationnaire), qui est déterminé à l'avance comme étant une amplitude qui augmente l'onde stationnaire déplacement de champ électrique jusqu'à ce que le déplacement est soit sur le côté positif uniquement, soit sur côté négatif uniquement sur la surface de l'échantillon(23).
(JA)定在波用平面波照明部40,50によって、光源部30からの光を用いて二光波の平面波41,51を生成し、生成した二光波の平面波41,51を試料面23上で干渉させて生成される定在波による照明を試料面23に対して行なう。さらに、バイアス平面波照明部60によって、定在波の電場変位が試料面23上の各位置で値0になる基準時期を境にして電場変位が試料面23上で位置に拘わらず等しい変位をもって正側と負側とに交互に振れるよう定在波に同期し、且つ、試料面23上での定在波の電場変位を丁度正側のみまたは負側のみとなるまで嵩上げする振幅として予め定められたバイアス用振幅(定常波と等しい値2Aの振幅)で振動するバイアス平面波61を、光源部30からの光を用いて生成し、生成したバイアス平面波61による照明を試料面23に対して行なう。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)