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1. (WO2013125259) FERROMAGNETIC MATERIAL SPUTTERING TARGET CONTAINING CHROME OXIDE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/125259    International Application No.:    PCT/JP2013/050530
Publication Date: 29.08.2013 International Filing Date: 15.01.2013
Chapter 2 Demand Filed:    08.05.2013    
IPC:
C23C 14/34 (2006.01), G11B 5/64 (2006.01), G11B 5/65 (2006.01), G11B 5/851 (2006.01)
Applicants: JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION [JP/JP]; 6-3, Otemachi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008164 (JP)
Inventors: TAKAMI Hideo; (JP).
ARAKAWA Atsutoshi; (JP)
Agent: OGOSHI Isamu; OGOSHI International Patent Office, HATSUMEIKAIKAN 5F, 9-14, Toranomon 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
Priority Data:
2012-037235 23.02.2012 JP
Title (EN) FERROMAGNETIC MATERIAL SPUTTERING TARGET CONTAINING CHROME OXIDE
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION FERROMAGNÉTIQUE CONTENANT UN OXYDE DE CHROME
(JA) クロム酸化物を含有する強磁性材スパッタリングターゲット
Abstract: front page image
(EN)A ferromagnetic material sputtering target containing a matrix phase comprising cobalt, cobalt and chrome, cobalt and platinum, or cobalt, chrome and platinum, and an oxide phase including at least a chrome oxide. The ferromagnetic material sputtering target is characterized by containing a total content of 100-15,000 wt ppm of at least one type of either Zr or W, and by having a relative density of at least 97%. The present invention addresses the problem of providing a ferromagnetic material sputtering target that maintains a high density, uniformly miniaturizes oxide phase particles, and contains a chrome oxide having little generation of particles.
(FR) L'invention concerne une cible de pulvérisation comportant: une phase matricielle constituée de cobalt, de cobalt et de chrome, de cobalt et de platine, ou encore de cobalt, de chrome et de platine; ainsi qu'une phase oxyde contenant au moins un oxyde de chrome. Plus spécifiquement, cette cible de pulvérisation ferromagnétique se caractérise en ce qu'elle contient au moins un élément parmi Zr et W, dans une quantité totale supérieure ou égale à 100 ppm en poids et inférieure ou égale à 15000 ppm en poids et en ce que sa densité relative est supérieure ou égale à 97 %. Cette cible de pulvérisation ferromagnétique permet de maintenir une densité élevée, présente une phase oxyde à micro-particules uniformes et contient un oxyde de chrome générant peu de particules.
(JA) コバルト、或いはコバルト、クロム、或いはコバルト、白金、或いはコバルト、クロム、白金からなるマトリックス相と、少なくともクロム酸化物を含む酸化物相を含有するスパッタリングターゲットであって、Zr、Wのうちいずれか1種以上を合計で100wtppm以上15000wtppm以下含有し、相対密度が97%以上であることを特徴とする強磁性材スパッタリングターゲット。高密度を維持しつつ、酸化物相の粒子を一律に微細化した、パーティクルの発生の少ないクロム酸化物を含有する強磁性材スパッタリングターゲットを提供することを課題とする。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)