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1. (WO2013125143) METHOD FOR PRODUCING PHOTOELECTRIC CONVERSION DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/125143    International Application No.:    PCT/JP2012/082902
Publication Date: 29.08.2013 International Filing Date: 19.12.2012
IPC:
H01L 31/04 (2006.01)
Applicants: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP) (For All Designated States Except US).
MIYAMOTO, Koudai; (US only).
NAKAHARA, Satoshi; (US only)
Inventors: MIYAMOTO, Koudai; .
NAKAHARA, Satoshi;
Agent: FUKAMI PATENT OFFICE, P.C.; Nakanoshima Central Tower, 2-7, Nakanoshima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300005 (JP)
Priority Data:
2012-037342 23.02.2012 JP
2012-037346 23.02.2012 JP
Title (EN) METHOD FOR PRODUCING PHOTOELECTRIC CONVERSION DEVICE
(FR) PROCÉDÉ POUR LA FABRICATION D'UN DISPOSITIF DE CONVERSION PHOTOÉLECTRIQUE
(JA) 光電変換装置の製造方法
Abstract: front page image
(EN)A method for producing a photoelectric conversion device, in which a photoelectric conversion layer (3) and/or a back-side electrode layer (4) is present in a region in which a periphery-insulated region (10) is to be formed when a periphery insulation step is carried out.
(FR)La présente invention concerne un procédé pour la fabrication d'un dispositif de conversion photoélectrique, dans lequel une couche de conversion photoélectrique (3) et/ou une couche d'électrode de côté arrière (4) sont présentes dans une région dans laquelle une région isolée de la périphérie (10) doit être formée lors de la réalisation d'une étape d'isolement de périphérie.
(JA) 周縁絶縁工程を行なうときには、周縁絶縁領域(10)を形成する領域には、光電変換層(3)および裏面電極層(4)の少なくとも一方が存在している光電変換装置の製造方法である。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)