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1. (WO2013124898) PLASMA PROCESSING DEVICE AND PLASMA PROCESSING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/124898    International Application No.:    PCT/JP2012/001252
Publication Date: 29.08.2013 International Filing Date: 23.02.2012
IPC:
H05H 1/46 (2006.01), C23C 16/509 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01)
Applicants: TOHOKU UNIVERSITY [JP/JP]; 1-1, Katahira 2-chome, Aoba-ku, Sendai-shi, Miyagi 9808577 (JP) (For All Designated States Except US).
HIRAYAMA, Masaki [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: HIRAYAMA, Masaki; (JP)
Priority Data:
Title (EN) PLASMA PROCESSING DEVICE AND PLASMA PROCESSING METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT PAR PLASMA
(JA) プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
Abstract: front page image
(EN)Provided is a plasma processing device that, when using plasma on a substrate having a large size, is capable of improving the uniformity of the density of plasma that is excited by high frequencies such as those of the VHF frequency band. The plasma processing device comprises: a waveguide member (401) that defines a waveguide (WG); a coaxial tube (225) that supplies electromagnetic energy from a predetermined electrical supply position in the longitudinal direction (A) of the waveguide (WG) to within the waveguide (WG); and a plurality of electrodes (461) for forming an electrical field that are supplied with electromagnetic energy via the waveguide (WG) and positioned so as to face a plasma formation space (PS). The plurality of electrodes (461) are arranged along the longitudinal direction (A) of the waveguide (WG) and each of the plurality of electrodes (461) extends in the width direction (B) of the waveguide (WG).
(FR)L'invention concerne un dispositif de traitement par plasma qui, lors de l'utilisation d'un plasma sur un substrat de grande taille, est capable d'améliorer l'uniformité de la densité d'un plasma qui est excité par des hautes fréquences comme celles de la bande de fréquences VHF. Le dispositif de traitement par plasma comporte : un élément (401) de guide d'ondes qui définit un guide d'ondes (WG) ; un tube coaxial (225) qui amène une énergie électromagnétique d'une position prédéterminée d'alimentation électrique dans la direction longitudinale (A) du guide d'ondes (WG) vers l'intérieur du guide d'ondes (WG) ; et une pluralité d'électrodes (461) servant à former un champ électrique, qui sont alimentées en énergie électromagnétique via le guide d'ondes (WG) et positionnées de manière à faire face à un espace de formation de plasma (PS). La pluralité d'électrodes (461) est disposée suivant la direction longitudinale (A) du guide d'ondes (WG) et chaque électrode de la pluralité d'électrodes (461) s'étend dans la direction transversale (B) du guide d'ondes (WG).
(JA) 大きなサイズの基板に対して、VHF周波数帯のような高周波で励起されるプラズマの密度の均一性を改善できるプラズマ処理装置を提供する。導波路(WG)を画定する導波路部材(401)と、導波路(WG)の長手方向(A)における所定の給電位置から電磁エネルギーを当該導波路(WG)内に供給する同軸管(225)と、導波路(WG)を通じて電磁エネルギーが供給されるとともに、プラズマ形成空間PSに面するように配置された電界形成用の複数の電極(461)と、を有し、複数の電極(461)は、導波路(WG)の長手方向(A)に沿って配列され、複数の電極(461)の各々は、導波路(WG)の幅方向(B)に延在している。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)