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1. (WO2013122718) INTEGRATED MEMBRANE LAMINATION AND UV EXPOSURE SYSTEM AND METHOD OF USING THE SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2013/122718 International Application No.: PCT/US2013/022484
Publication Date: 22.08.2013 International Filing Date: 22.01.2013
IPC:
G03C 1/00 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
C
PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR OR STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
1
Photosensitive materials
Applicants: MACDERMID PRINTING SOLUTIONS, LLC[US/US]; 245 Freight Street Waterbury, CT 06702, US
Inventors: RECCHIA, David, A.; US
BALDWIN, Kyle, P.; US
GOTSICK, Timothy; US
Agent: CORDANI, John, L.; Carmody & Torrance LLP 50 Leavenworth Street P.O. Box 1110 Waterbury, CT 06721-1110, US
Priority Data:
13/372,06013.02.2012US
Title (EN) INTEGRATED MEMBRANE LAMINATION AND UV EXPOSURE SYSTEM AND METHOD OF USING THE SAME
(FR) SYSTÈME DE STRATIFICATION DE MEMBRANE ET D'EXPOSITION UV INTÉGRÉ ET SON PROCÉDÉ D'UTILISATION
Abstract:
(EN) Photosensitive printing blank comprises a backing layer, at least one photocurable layer disposed on the backing layer, and a laser ablatable mask layer disposed on the at least one photocurable layer, wherein the laser ablatable mask layer is laser ablated to create an in situ negative in the laser ablatable mask layer, The exposing apparatus comprises: (a) a laminating apparatus for laminating an oxygen barrier layer to a top of the laser ablated mask layer; (b) a conveyor for conveying the photosensitive printing blank through the exposing apparatus; (c) a first exposing device for exposing the at least one photocurable layer to actinic radiation from the first exposing device through the laser ablated mask layer to selectively crosslink and cure portions of the at least one photocurable layer not covered by the mask layer, and (d) a second exposing device for exposing the at least one photocurable layer to actinic radiation.
(FR) L'invention concerne une ébauche d'impression photosensible qui comprend une couche de support, au moins une couche photodurcissable disposée sur la couche de support, et une couche de masque pouvant subir une ablation au laser, disposée sur l'au moins une couche photodurcissable, la couche de masque pouvant subir une ablation au laser subit une ablation au laser pour créer un négatif in situ dans la couche de masque pouvant subir une ablation au laser. L'appareil d'exposition comprend : (a) un appareil de stratification pour stratifier une couche de barrière contre l'oxygène à la partie supérieure de la couche de masque ayant subit une ablation au laser ; (b) un transporteur pour transporter l'ébauche d'impression photosensible à travers l'appareil d'exposition ; (c) un premier dispositif d'exposition pour exposer l'au moins une couche photodurcissable par rayonnement actinique du premier dispositif d'exposition à travers la couche de masque ayant subit une ablation au laser pour réticuler et durcir sélectivement des parties de l'au moins une couche photodurcissable non couverte par la couche de masque, et (d) un second dispositif d'exposition pour exposer l'au moins une couche photodurcissable par rayonnement actinique.
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Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)