WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2013122505) DEVICE AND METHOD FOR GENERATING RADIATION FROM DISCHARGE PLASMA
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2013/122505 International Application No.: PCT/RU2012/000701
Publication Date: 22.08.2013 International Filing Date: 23.08.2012
IPC:
H05G 2/00 (2006.01) ,H01J 35/02 (2006.01)
Applicants: IVANOV, Vladimir Vitalievich[RU/RU]; RU (UsOnly)
KOCHELEV, Konstantin Nikolaevich[RU/RU]; RU (UsOnly)
KRIVTSUN, Vladimir Mikhailovich[RU/RU]; RU (UsOnly)
YAKUSHEV, Oleg Feliksovich[RU/RU]; RU (UsOnly)
EUV LABS, LTD[RU/RU]; Teсhnopark Sirenevy bulvar, 1 Troitsk Moscow, 142191, RU (AllExceptUS)
Inventors: IVANOV, Vladimir Vitalievich; RU
KOCHELEV, Konstantin Nikolaevich; RU
KRIVTSUN, Vladimir Mikhailovich; RU
YAKUSHEV, Oleg Feliksovich; RU
Agent: MARKOV, Alexey Mikhailovich; а/уа 59 St.Petersburg, 195221, RU
Priority Data:
201210506715.02.2012RU
Title (EN) DEVICE AND METHOD FOR GENERATING RADIATION FROM DISCHARGE PLASMA
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE GÉNÉRATION DE RAYONNEMENT À PARTIR DU PLASMA DE DÉCHARGE
(RU) УСТРОЙСТВО И СПОСОБ ГЕНЕРАЦИИ ИЗЛУЧЕНИЯ ИЗ РАЗРЯДНОЙ ПЛАЗМЫ
Abstract: front page image
(EN) The invention relates to a device and a method for generating powerful extreme ultraviolet or soft x-ray radiation. The field of use includes EUV lithography in the production of integrated circuits, and also metrology. The device comprises a switched-mode power supply connected to a first electrode and a second electrode, and a focused laser beam that initiates a discharge between the first and second electrodes, producing radiation. The laser beam is directed at an irradiation site on the second electrode such that the discharge initiated by the laser beam has an asymmetrical, substantially curved banana-like shape. In the implementation of the method the voltage of the switched-mode power supply is applied between the first and second electrodes, and the laser beam is directed at an irradiation site on the second electrode such as to form an asymmetrical discharge having a substantially curved banana-like shape, the self-magnetic field of which has, in direct proximity to the discharge, a gradient which determines the substantial movement of the flow of discharge plasma from the electrodes to the region of a less powerful magnetic field in a direction substantially different from the direction in which optical radiation in the form of a divergent beam exits from the discharge plasma. The invention enables the highly effective suppression, in the beam of radiation, of the flow of plasma from the discharge, including from the most effective emission region thereof.
(FR) L'invention concerne un dispositif et un procédé pour générer un rayonnement ultraviolet extrême puissant ou un rayonnement X mou. Le domaine d'utilisation comprend la lithographie EUV utilisée dans la fabrication de circuits intégrés ou en métrologie. Le dispositif comprend une source d'alimentation pulsée branchée sur la première et seconde électrodes, un faisceau laser focalisé qui initie une décharge provoquant le rayonnement entre la première et la seconde électrodes. Le rayon laser est dirigé sur le lieu d'irradiation de la deuxième électrode de manière à ce que la décharge initiée par le faisceau laser possède une forme asymétrique, de préférence incurvée en forme de croissant. Dans la réalisation du procédé on applique la tension de la source pulsée entre la première et la seconde électrodes, on dirige le faisceau sur le lieu d'irradiation de la deuxième électrode de manière à former une décharge asymétrique, de préférence incurvée en forme de croissant, initiée par le faisceau laser et dont le champ magnétique propre à proximité immédiate de la décharge présente un gradient déterminant le mouvement prioritaire du flux de plasma de décharge depuis les électrodes dans le domaine du champ magnétique moins intensif dans une direction qui est sensiblement différente de la direction de sortie du plasma de décharge de rayonnement optique sous la forme d'un faisceau divergeant. L'invention permet d'assurer une suppression hautement efficace dans le faisceau de rayonnement du flux de plasma provenant de la décharge, y compris dans sa partie qui émet le rayonnement le plus actif.
(RU) Изобретение относится к устройству и способу для генерации мощного экстремального ультрафиолетового или мягкого рентгеновского излучения. Область применения включает ЭУФ- литографию при производстве интегральных схем или метрологию. Устройство содержит импульсный источник питания подсоединенный к первому, и второму электродам, сфокусированный луч лазера, инициирующий между первым и вторым электродами разряд, производящий излучение. Луч лазера направлен на место облучения второго электрода таким образом, чтобы инициируемый лучом лазера разряд имел асимметричную, преимущественно изогнутую, бананообразную форму. При выполнении способа прикладывают напряжение импульсного источника питания между первым и вторым электродом, луч лазера направляют на место облучения второго электрода таким образом, чтобы сформировать инициируемый лучом лазера асимметричный разряд преимущественно изогнутой, бананообразной формы, собственное магнитное поле которого непосредственно вблизи разряда имело градиент, определяющий преимущественное движение потока разрядной плазмы от электродов в область менее сильного магнитного поля в направлении, существенно отличающемся от направления выхода из плазмы разряда оптического излучения в виде расходящегося пучка. Изобретение обеспечивает высокоэффективное подавление в пучке излучения потока плазмы из разряда, в том числе, из его наиболее эффективно излучающей области.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Russian (RU)
Filing Language: Russian (RU)