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1. (WO2013122015) SOLID-STATE IMAGE SENSOR ELEMENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/122015    International Application No.:    PCT/JP2013/053132
Publication Date: 22.08.2013 International Filing Date: 08.02.2013
IPC:
H01L 27/14 (2006.01)
Applicants: SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi, Osaka 5458522 (JP)
Inventors: SUEYOSHI, Yasuhiko;
Agent: MASAKI, Yoshifumi; Yodoyabashi NAO Bldg. 7F, 3-6, Imabashi 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410042 (JP)
Priority Data:
2012-030344 15.02.2012 JP
Title (EN) SOLID-STATE IMAGE SENSOR ELEMENT
(FR) ÉLÉMENT CAPTEUR D'IMAGE À L'ÉTAT SOLIDE
(JA) 固体撮像素子
Abstract: front page image
(EN)Provided is a solid-state image sensor element equipped with light blocking sections that have good light blocking characteristics. A light blocking section (S) of the solid-state image sensor element has a multi-layer structure comprising: a lower-side light-blocking material layer (R1), which is a light-blocking material layer comprising light-blocking material; an intermediate refractory material layer (H2), which is a refractory material layer comprising refractory material and is formed on the upper face of the lower-side light-blocking material layer (R1); and an upper-side light-blocking material layer (R2), which is a light-blocking material layer and is formed on the upper face of the intermediate refractory material layer (H2).
(FR)L'invention concerne un élément capteur d'image à l'état solide équipé de sections de blocage de lumière qui ont de bonnes caractéristiques de blocage de lumière. Une section de blocage de lumière (S) de l'élément capteur d'image à l'état solide a une structure multicouche comprenant : une couche de matériau de blocage de lumière sur le côté inférieur (R1) qui est une couche de matériau de blocage de lumière comprenant un matériau bloquant la lumière ; une couche de matériau réfractaire intermédiaire (H2), qui est une couche de matériau réfractaire comprenant un matériau réfractaire et est formée sur la couche supérieure du matériau de blocage de lumière du côté inférieur (R1) ; une couche de matériau de blocage de lumière sur le côté supérieur (R2), qui est une couche de matériau de blocage de lumière et est formée sur la face supérieure de la couche de matériau réfractaire intermédiaire (H2).
(JA) 良好な遮光性を有する遮光部を備えた固体撮像素子を提供する。固体撮像素子が備える遮光部Sは、遮光性材料を有する遮光性材料層である下側遮光性材料層R1と、高融点材料を有する高融点材料層であり下側遮光性材料層R1の上面に形成される中間高融点材料層H2と、遮光性材料層であり中間高融点材料層H2の上面に形成される上側遮光性材料層R2と、から成る積層構造を有する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)