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1. (WO2013121819) ACTIVE LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND RESIST FILM EACH USING SAID COMPOSITION, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE RESPECTIVELY USING PATTERN FORMING METHOD AND RESIST FILM EACH USING SAID COMPOSITION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/121819    International Application No.:    PCT/JP2013/050675
Publication Date: 22.08.2013 International Filing Date: 16.01.2013
IPC:
G03F 7/004 (2006.01), C07C 381/12 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1060031 (JP)
Inventors: TAKIZAWA Hiroo; (JP).
TSUCHIMURA Tomotaka; (JP)
Agent: TAKAMATSU Takeshi; Koh-Ei Patent Firm, Toranomon East Bldg. 9F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Priority Data:
2012-032099 16.02.2012 JP
Title (EN) ACTIVE LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND RESIST FILM EACH USING SAID COMPOSITION, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE RESPECTIVELY USING PATTERN FORMING METHOD AND RESIST FILM EACH USING SAID COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT ACTIF, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET FILM DE RÉSERVE UTILISANT CHACUN LADITE COMPOSITION, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE UTILISANT RESPECTIVEMENT LE PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET LE FILM DE RÉSERVE UTILISANT CHACUN LADITE COMPOSITION
(JA) 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法及びレジスト膜、並びにこれらを用いた電子デバイスの製造方法及び電子デバイス
Abstract: front page image
(EN)[Problem] To provide: an active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition which has excellent sensitivity, resolution, roughness performance and long-term stability, while being reduced in the generation of an outgas; a pattern forming method and a resist film, each of which uses the active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition; and a method for manufacturing an electronic device and an electronic device, respectively using the pattern forming method and the resist film. [Solution] An active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition which contains a compound represented by general formula (Z1), said compound generating an acid when irradiated with active light or radiation.
(FR)L'invention a pour but de proposer : une composition de résine sensible à la lumière active ou sensible au rayonnement actif qui a une excellente sensibilité, une excellente résolution, d'excellentes performances de rugosité et une excellente stabilité à long terme, tout en générant un dégazage réduit ; un procédé de formation de motif et un film de réserve, chacun utilisant la composition de résine sensible à la lumière active ou sensible au rayonnement actif ; et un procédé de fabrication d'un dispositif électronique et un dispositif électronique, utilisant respectivement le procédé de formation de motif et le film de réserve. A cet effet, l'invention concerne une composition de résine sensible à la lumière active ou sensible au rayonnement actif qui contient un composé représenté par la formule générale (Z1), ledit composé générant un acide lorsqu'il est irradié par une lumière active ou un rayonnement actif.
(JA)【課題】感度、解像性、ラフネス性能及び経時安定性に優れ、アウトガスの発生も少ない感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法及びレジスト膜、並びにこれらを用いた電子デバイスの製造方法及び電子デバイスを提供する。 【解決手段】一般式(Z1)で表される活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)