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1. (WO2013121645) FUNCTIONAL FILM AND METHOD FOR PRODUCING FUNCTIONAL FILM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/121645    International Application No.:    PCT/JP2012/080002
Publication Date: 22.08.2013 International Filing Date: 20.11.2012
IPC:
C23C 16/44 (2006.01), B32B 9/00 (2006.01), C23C 16/42 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/02 (2006.01), H05B 33/04 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1060031 (JP)
Inventors: UMEMORI Kenichi; (JP)
Agent: WATANABE Mochitoshi; Yusen Iwamoto-cho Bldg. 6F., 3-3, Iwamoto-cho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010032 (JP)
Priority Data:
2012-030476 15.02.2012 JP
Title (EN) FUNCTIONAL FILM AND METHOD FOR PRODUCING FUNCTIONAL FILM
(FR) FILM FONCTIONNEL ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM FONCTIONNEL
(JA) 機能性フィルムおよび機能性フィルムの製造方法
Abstract: front page image
(EN)Provided is a functional film, in which at least one combination of an organic layer and an inorganic layer is arranged on a base plate, wherein the inorganic layer contains silicon and nitrogen and is arranged on the organic layer, any foreign matter having a size larger than 500 μm is not present on the surface of the inorganic layer, and foreign matters each having a size of 5 to 500 μm are present on the surface of the inorganic layer at a density of 10 particles or less per 1 cm2. Also provided is a method for producing the functional film, wherein the inorganic layer is formed by plasma CVD using an electrode having a surface Ra of 15 to 50 μm and having recesses and protrusions, wherein the radius of the tip of each of the protrusions is 50 μm or more. The present invention provides a functional film that can exhibit high performance steadily, such as a gas barrier film having high gas barrier performance, and enables the suitable production of the functional film.
(FR)L'invention concerne un film fonctionnel, dans lequel au moins une combinaison d'une couche organique et d'une couche inorganique est disposée sur une plaque de base, la couche inorganique contenant du silicium et de l'azote et étant disposée sur la couche organique, toute matière étrangère ayant une dimension supérieure à 500 µm n'est pas présente sur la surface de la couche inorganique, et des matières étrangères ayant chacunes une dimension de 5 à 500 µm sont présentes sur la surface de la couche inorganique avec une densité de 10 particules ou moins par 1 cm2. L'invention concerne également un procédé de fabrication du film fonctionnel, la couche inorganique étant formée par CVD plasma à l'aide d'une électrode ayant une surface Ra de 15 à 50 µm et ayant des creux et des protubérances, le rayon de la pointe de chacune des protubérances étant de 50 µm ou plus. La présente invention concerne un film fonctionnel qui peut présenter une performance élevée de façon constante, comme un film de barrière contre les gaz ayant une performance de barrière contre les gaz élevée et permet la fabrication adaptée du film fonctionnel.
(JA) 基板の上に、有機層と、その上の珪素と窒素を含む無機層との組み合わせを1以上有し、かつ、無機層の表面に500μmを超える異物が存在せず、さらに、5~500μmの異物が1cm2当たり10個以下である機能性フィルムを提供する。さらに、この機能性フィルムの製造方法として、無機層を、表面のRaが15~50μmで、かつ、凸部の先端の半径が50μm以上の凹凸を有する電極を用いてプラズマCVDによって成膜する方法を提供する。本発明は、この構成により、高いガスバリア性を有するガスバリアフィルムなど、高い性能を安定して得られる機能性フィルム、および、この機能性フィルムを好適に製造できる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)