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1. (WO2013119322) METHODS AND ELECTROLYTES FOR ELECTRODEPOSITION OF SMOOTH FILMS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/119322    International Application No.:    PCT/US2012/070288
Publication Date: 15.08.2013 International Filing Date: 18.12.2012
IPC:
C25D 5/10 (2006.01), C25D 3/02 (2006.01)
Applicants: BATTELLE MEMORIAL INSTITUTE [US/US]; Intellectual Property Legal Services P.O. Box 999, M/S K1-53 Richland, Washington 99352 (US).
ZHANG, Jiguang [US/US]; (US) (US only).
XU, Wu [CN/US]; (US) (US only).
GRAFF, Gordon L. [US/US]; (US) (US only).
CHEN, Xilin [CN/US]; (US) (US only).
SHAO, Yuyan [CN/US]; (US) (US only).
DING, Fei [CN/CN]; (CN) (US only)
Inventors: ZHANG, Jiguang; (US).
XU, Wu; (US).
GRAFF, Gordon L.; (US).
CHEN, Xilin; (US).
SHAO, Yuyan; (US).
DING, Fei; (CN)
Agent: TUAN, Allan C.; Battelle Memorial Institute P.O. Box 999, M/S K1-53 Richland, Washington 99352 (US)
Priority Data:
13/367,508 07.02.2012 US
13/495,727 13.06.2012 US
Title (EN) METHODS AND ELECTROLYTES FOR ELECTRODEPOSITION OF SMOOTH FILMS
(FR) PROCÉDÉS ET ÉLECTROLYTES POUR LE DÉPÔT ÉLECTROLYTIQUE DE FILMS LISSES
Abstract: front page image
(EN)Electrodeposition involving an electrolyte having a surface-smoothing additive can result in self-healing, instead of self-amplification, of initial protuberant tips that give rise to roughness and/or dendrite formation on the substrate and/or film surface. For electrodeposition of a first conductive material (C1) on a substrate from one or more reactants in an electrolyte solution, the electrolyte solution is characterized by a surface-smoothing additive containing cations of a second conductive material (C2), wherein cations of C2 have an effective electrochemical reduction potential in the solution lower than that of the reactants.
(FR)La présente invention concerne un dépôt électrolytique comprenant un électrolyte ayant un additif de polissage de surface pouvant entraîner l'autoréparation, au lieu d'auto-amplification, de pointes protubérantes de départ qui provoque la rugosité et/ou la formation de dendrites sur la surface de substrat et/ou de film. Pour le dépôt électrolytique d'un premier matériau conducteur (C1) sur un substrat à partir d'un ou de plusieurs réactifs dans une solution électrolytique, la solution électrolytique est caractérisée par un additif de polissage de surface contenant des cations d'un second matériau conducteur (C2), les cations de C2 ayant un potentiel effectif de réduction électrochimique dans la solution inférieur à celui des réactifs.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)