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1. (WO2013118718) VAPOUR DEPOSITION FOAM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/118718    International Application No.:    PCT/JP2013/052602
Publication Date: 15.08.2013 International Filing Date: 05.02.2013
IPC:
B32B 5/18 (2006.01), B32B 9/00 (2006.01), B65D 1/00 (2006.01), B65D 1/02 (2006.01), B65D 23/02 (2006.01), B65D 65/42 (2006.01), C23C 16/27 (2006.01), C23C 16/42 (2006.01), C23C 16/50 (2006.01)
Applicants: TOYO SEIKAN CO., LTD. [JP/JP]; 18-1, Higashi-Gotanda 2-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1418640 (JP) (JP only).
TOYO SEIKAN GROUP HOLDINGS, LTD. [JP/JP]; 18-1, Higashi-Gotanda 2-chome, Shinagawa-ku, Tokyo 1418627 (JP) (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CN, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IS, IT, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW only)
Inventors: KOISO, Nobuhisa; (JP).
ICHIKAWA, Kentarou; (JP).
AIHARA, Takeshi; (JP)
Agent: ONO, Hisazumi; Nippon Shuzo bldg., 1-21, Nishi-shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Priority Data:
2012-024383 07.02.2012 JP
Title (EN) VAPOUR DEPOSITION FOAM
(FR) MOUSSE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
(JA) 蒸着発泡体
Abstract: front page image
(EN) The present invention provides a vapour deposition foam having a vapour deposition film (15) formed on the surface of a foamed plastic molded article (10) having foam cells (1) included therein, the vapour deposition foam being characterised in that, in the surface (X), of the foamed plastic molded article (10), forming the substrate for the vapour deposition film (15), the bubble fraction of the foam cells (1) in a surface layer section (10a) extending to a depth of 50μm from the surface is suppressed so as to not exceed 30%. The present invention is a vapour deposition foam in which a vapour deposition film is formed on the surface of a foamed plastic molded article such as a foamed plastic container, and in which the vapour deposition film is evenly formed and is effectively prevented from being detached.
(FR)La présente invention concerne une mousse de dépôt en phase vapeur ayant un film de dépôt en phase vapeur (15) formé sur la surface d'un article moulé en matière plastique expansée (10) ayant des cellules de mousse (1) incluses à l'intérieur de celui-ci, la mousse de dépôt en phase vapeur étant caractérisée en ce que, dans la surface (X), de l'article moulé en matière plastique expansée (10), formant le substrat pour le film de dépôt en phase vapeur (15), la fraction de bulles des cellules de mousse (1) dans une section de couche superficielle (10a) qui s'étend jusqu'à une profondeur de 50 μm à partir de la surface est supprimée de façon à ne pas dépasser 30 %. La présente invention est une mousse de dépôt en phase vapeur dans laquelle un film de dépôt en phase vapeur est formé sur la surface d'un article moulé en matière plastique expansée tel qu'un récipient en plastique expansé, et dans lequel le film de dépôt en phase vapeur est formé de façon homogène et est efficacement empêché de se détacher.
(JA) 本発明によれば、発泡セル1を内蔵する発泡プラスチック成形体10の表面に蒸着膜15が形成されている蒸着発泡体において、蒸着膜15の下地となっている発泡プラスチック成形体10の表面Xでは、該表面から深さが50μmまでの表層部10aにおける発泡セル1の気泡率が30%以下に抑制されていることを特徴とする蒸着発泡体が提供される。本発明は、発泡容器などの発泡プラスチック成形体の表面に蒸着膜が形成されている蒸着発泡体であり、蒸着膜が均一に形成され且つ蒸着膜の剥がれが有効に防止されている。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)