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1. (WO2013118655) URETHANE (METH)ACRYLATE AND MOISTURE-PROOF INSULATING COATING MATERIAL
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2013/118655 International Application No.: PCT/JP2013/052383
Publication Date: 15.08.2013 International Filing Date: 01.02.2013
IPC:
C08G 18/67 (2006.01) ,C08F 290/06 (2006.01) ,C09D 4/02 (2006.01) ,C09D 5/25 (2006.01) ,C09D 7/12 (2006.01) ,C09D 175/16 (2006.01)
Applicants: SHOWA DENKO K.K.[JP/JP]; 13-9, Shibadaimon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058518, JP
Inventors: OOGA, Kazuhiko; JP
KOUKA, Hiroto; JP
SUZUKI, Kai; JP
Agent: AOKI, Atsushi; SEIWA PATENT & LAW, Toranomon 37 Mori Bldg., 5-1, Toranomon 3-chome, Minato-ku, Tokyo 1058423, JP
Priority Data:
2012-02412207.02.2012JP
Title (EN) URETHANE (METH)ACRYLATE AND MOISTURE-PROOF INSULATING COATING MATERIAL
(FR) (MÉTH)ACRYLATE D'URÉTHANE ET MATÉRIAU ISOLANT DE REVÊTEMENT À L'ÉPREUVE DE L'HUMIDITÉ
(JA) ウレタン(メタ)アクリレートおよび防湿絶縁塗料
Abstract: front page image
(EN) Provided is a photocurable moisture-proof insulating coating material which places little burden on the environment and has excellent surface curability with low irradiation. In addition, this photocurable moisture-proof insulating coating material is hydrophobic and exhibits high adhesion to a substrate material. Also provided is a novel urethane (meth)acrylate which is used for this moisture-proof insulating coating material. A urethane (meth)acrylate of the present invention is obtained by reacting (a) a polyester polyol that has a structural unit derived from a hydrogenated dimer acid and a structural unit derived from a hydrogenated dimer diol, (b) a polyisocyanate compound and (c) a hydroxyl group-containing (meth)acrylate. A moisture-proof insulating coating material of the present invention contains this urethane (meth)acrylate and a (meth)acryloyl group-containing compound that does not contain a silicon atom.
(FR) La présente invention concerne un matériau isolant de revêtement à l'épreuve de l'humidité qui est photodurcissable, qui a peu d'impact sur l'environnement et qui présente une excellente aptitude au durcissement en surface sous un rayonnement de faible intensité. En outre, le matériau isolant de revêtement à l'épreuve de l'humidité photodurcissable selon l'invention est hydrophobe et est capable d'adhérer fortement à un matériau de substrat. L'invention concerne également un nouveau (méth)acrylate d'uréthane utilisé pour fabriquer ce matériau isolant de revêtement à l'épreuve de l'humidité. Le (méth)acrylate d'uréthane selon l'invention est obtenu par la réaction (a) d'un polyester polyol contenant un motif structurel dérivé d'un acide dimère hydrogéné et un motif structurel dérivé d'un diol dimère hydrogéné, (b) d'un composé de polyisocyanate et (c) d'un (méth)acrylate contenant un groupe hydroxyle. Le matériau isolant de revêtement à l'épreuve de l'humidité selon l'invention contient ce (méth)acrylate d'uréthane et un composé contenant un groupe (méth)acryloyle ne contenant pas d'atome de silicium.
(JA)  環境負荷が少なく、低照射量で表面硬化性に優れ、しかも疎水性でかつ基板材料に対して高い接着性を有する光硬化性防湿絶縁塗料、およびその防湿絶縁塗料に用いる新規なウレタン(メタ)アクリレートを提供する。本発明のウレタン(メタ)アクリレートは、(a)水添ダイマー酸から誘導される構造単位および水添ダイマージオールから誘導される構造単位を有するポリエステルポリオール、(b)ポリイソシアネート化合物、および(c)水酸基含有(メタ)アクリレートを反応させることにより得られる。本発明の防湿絶縁塗料は、そのウレタン(メタ)アクリレートと、珪素原子を含まない(メタ)アクリロイル基含有化合物とを含む。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)