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1. (WO2013118594) CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/118594    International Application No.:    PCT/JP2013/051693
Publication Date: 15.08.2013 International Filing Date: 28.01.2013
IPC:
H01J 37/20 (2006.01)
Applicants: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION [JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717 (JP)
Inventors: EBIZUKA Yasushi; (JP).
KANNO Seiichiro; (JP).
NISHIHARA Makoto; (JP).
FUJITA Masashi; (JP)
Agent: INOUE Manabu; c/o HITACHI, LTD., 6-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008220 (JP)
Priority Data:
2012-025676 09.02.2012 JP
Title (EN) CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS
(FR) APPAREIL À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
(JA) 荷電粒子線装置
Abstract: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a charged particle beam apparatus, wherein static electricity is effectively removed from an electrostatic chuck. In order to achieve the purpose, the present invention provides a charged particle beam apparatus that is provided with a sample chamber, in which a space having an electrostatic chuck mechanism (5) therein is maintained in a vacuum state. The charged particle beam apparatus is characterized in that: the apparatus is provided with an ultraviolet light source (6) for irradiating the inside of the sample chamber with ultraviolet light, and a member to be irradiated with the ultraviolet light; and that the member is disposed in the perpendicular line direction of an attracting surface of the electrostatic chuck.
(FR)L'invention a pour but de produire un appareil à faisceau de particules chargées dans lequel l'électricité statique est efficacement éliminée d'un mandrin électrostatique. Pour ce faire, un appareil à faisceau de particules chargées comprend une chambre d'échantillon dans laquelle un espace renfermant un mécanisme de mandrin électrostatique (5) est maintenu dans un état de vide. L'appareil à faisceau de particules chargées est caractérisé en ce qu'il comprend une source de lumière ultraviolette (6) destinée à irradier l'intérieur de la chambre d'échantillon au moyen de la lumière ultraviolette, et un élément à irradier au moyen de lumière ultraviolette ; et en ce que l'élément est disposé dans le sens d'une ligne perpendiculaire d'une surface d'attraction du mandrin électrostatique.
(JA) 本発明は、静電チャックの除電を効果的に実現する荷電粒子線装置の提供を目的とする。 上記目的を達成するために本発明では、静電チャック機構(5)を含む空間を真空状態に維持する試料室を備えた荷電粒子線装置において、試料室内に紫外光を照射するための紫外光源(6)と、当該紫外光が照射される被照射部材とを備え、当該被照射部材は、前記静電チャックの吸着面の垂線方向に配置されることを特徴とする荷電粒子線装置を提案する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)