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1. (WO2013117862) TRANSPARENT SUPPORTED ELECTRODE FOR AN OLED
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2013/117862 International Application No.: PCT/FR2013/050255
Publication Date: 15.08.2013 International Filing Date: 07.02.2013
IPC:
H01L 51/52 (2006.01)
Applicants: SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE[FR/FR]; 18, Avenue d'Alsace F-92400 Courbevoie, FR
Inventors: SAUVINET, Vincent; FR
LIENHART, Fabien; US
LECAMP, Guillaume; FR
Agent: SAINT-GOBAIN RECHERCHE; 39, Quai Lucien Lefranc F-93300 Aubervilliers, FR
Priority Data:
125125810.02.2012FR
Title (EN) TRANSPARENT SUPPORTED ELECTRODE FOR AN OLED
(FR) ELECTRODE SUPPORTEE TRANSPARENTE POUR OLED
Abstract: front page image
(EN) The present invention relates to a supported electrode for an OLED, including: a transparent or translucent non-conductive substrate (1) having a refractive index of 1.3 to 1.6; a continuous network of metal lines (2) made of a metal or metal alloy having an electrical conductivity at least equal to 5.106 S.m-1 and deposited on at least one surface area of the substrate, the metal lines having an average width L of 0.05 to 3 µm, preferably 0.2 to 2 µm, and in particular 0.3 to 1.5 µm, said metal lines defining a plurality of non-metal domains having a mean equivalent diameter D of 0.1 to 7.0 pm, the ratio D/L being between 0.8 and 5, preferably between 1.2 and 4.5, and in particular between 2 and 3.5, and at least 20% of the surface of the continuous network of metal lines having a tangent forming an angle of 15 to 75° relative to the plane of the substrate and the electrode; and a transparent or translucent layer (3) having a refractive index of 1.6 to 2.4 and a resistivity greater than that of the continuous network of metal lines and less than 104 Ω-cm, said layer completely covering the network of metal lines and the non-metallized domains, the continuous network of metal lines (2) and the transparent or translucent layer together forming a composite layer referred to as an electrode layer.
(FR) La présente invention concerne une électrode supportée pour OLED, comprenant - un substrat non conducteur (1), transparent ou translucide, d'indice de réfraction compris entre 1,3 et 1,6, - un réseau continu de lignes métalliques (2) constituées d'un métal ou alliage métallique présentant une conductivité électrique au moins égale à 5.106 S.m-1, déposé sur au moins une zone de surface du substrat, les lignes métalliques ayant une largeur moyenne L comprise entre 0,05 et 3 μm, de préférence entre 0,2 et 2 μm, en particulier entre 0,3 et 1,5 μm, ces lignes métalliques délimitant une pluralité de domaines non métallisés ayant un diamètre équivalent moyen D compris entre 0,1 et 7,0 pm, le rapport D/L étant compris entre 0,8 et 5, de préférence entre 1,2 et 4,5 et en particulier entre 2 et 3,5, et au moins 20 % de la surface du réseau continu de lignes métalliques présentant une tangente formant un angle compris entre 15 et 75 ° par rapport au plan du substrat et de l'électrode, - une couche transparente ou translucide (3) présentant un indice de réfraction compris entre 1,6 et 2,4 et une résistivité supérieure à celle du réseau continu de lignes métalliques et inférieure à 104 Ω-cm, ladite couche recouvrant complètement le réseau de lignes métalliques et les domaines non métallisés, le réseau continu de lignes métalliques (2) et la couche (3) transparente ou translucide formant ensemble une couche composite appelée couche d'électrode.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: French (FR)
Filing Language: French (FR)