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1. (WO2013115110) SEPARATION CONTROL METHOD, AND CONTROL DEVICE FOR PLASMA PROCESSING DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/115110    International Application No.:    PCT/JP2013/051654
Publication Date: 08.08.2013 International Filing Date: 25.01.2013
IPC:
H01L 21/683 (2006.01)
Applicants: TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-Chome, Minato-Ku, Tokyo 1076325 (JP)
Inventors: KAWABATA, Atsushi; (JP)
Agent: ITOH, Tadashige; 16th Floor, Marunouchi MY PLAZA (Meiji Yasuda Seimei Building), 1-1, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
Priority Data:
2012-021658 03.02.2012 JP
61/595,729 07.02.2012 US
Title (EN) SEPARATION CONTROL METHOD, AND CONTROL DEVICE FOR PLASMA PROCESSING DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE COMMANDE DE SÉPARATION, ET DISPOSITIF DE COMMANDE POUR DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA
(JA) 離脱制御方法及びプラズマ処理装置の制御装置
Abstract: front page image
(EN) Provided is a separation control method for separating an item to be processed from an electrostatic chuck which has a chuck electrode and which electrostatically adheres the item to be processed, said method being characterised by comprising: a step for measuring the current flowing from the chuck electrode for a prescribed time period once the voltage to the chuck electrode, which had been ON, is set to OFF after plasma processing, thus obtaining a time integration value for the current; a step for calculating the difference between the time integration value for the current and the electric charge charged to the chuck electrode during plasma processing; a step for calculating, from the abovementioned difference, a counter voltage which depends on the remaining electric charge of the electrostatic chuck, on the basis of the correlation between a predetermined current time integration value and the torque acting on a support pin supporting the item to be processed; and a step for setting the counter voltage to ON for the chuck electrode, whilst introducing gas into a processing chamber and generating plasma.
(FR) L' invention concerne un procédé de commande pour séparer un article à traiter d'un mandrin électrostatique comportant une électrode de mandrin et adhérant électrostatiquement à l'article à traiter. Ce procédé se caractérise en ce qu'il comprend: une étape de mesure du courant circulant de l'électrode de mandrin pendant une durée prescrite, une fois que la tension appliquée à l'électrode de mandrin a été commuté de la position MARCHE à la position ARRET après traitement au plasma, ce qui permet d'obtenir une valeur d'intégration temporelle pour le courant; une étape de calcul de la différence entre la valeur d'intégration temporelle pour le courant et la charge électrique apportée à l'électrode de mandrin pendant le traitement au plasma; une étape de calcul, à partir de ladite différence, d'une contre-tension qui dépend de la charge électrique résiduelle du mandrin électrostatique, en fonction de la corrélation entre une valeur prédéterminée d'intégration temporelle pour le courant et le couple agissant sur une broche de support de l'article à traiter; et une étape pour régler la contre-tension pour l'électrode de mandrin sur la position MARCHE, tout en introduisant un gaz dans une chambre de traitement pour générer du plasma.
(JA) チャック電極を有し、被処理体を静電吸着する静電チャックから被処理体を離脱させるための離脱制御方法であって、プラズマ処理後に前記チャック電極にオンした電圧をオフした後に前記チャック電極から流れる電流を所定時間測定した結果としての電流の時間積分値を取得する工程と、プラズマ処理中に前記チャック電極にチャージされた電荷量と前記取得した電流の時間積分値との差分を算出する工程と、予め定められた、電流の時間積分値と被処理体を支持する支持ピンに加わるトルクとの相関関係に基づき、前記差分から前記静電チャックの残留電荷量に応じたカウンタ電圧を算出する工程と、処理室内にガスを導入してプラズマを生成させながら、前記カウンタ電圧を前記チャック電極にオンする工程と、を含むことを特徴とする離脱制御方法が提供される。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)