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1. (WO2013113634) LITHOGRAPHIC APPARATUS COMPONENT AND LITHOGRAPHIC APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.: WO/2013/113634 International Application No.: PCT/EP2013/051480
Publication Date: 08.08.2013 International Filing Date: 25.01.2013
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V.[NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven, NL
Inventors: KOEVOETS, Adrianus; NL
DONDERS, Sjoerd; NL
VAN SCHOOT, Jan; NL
ZAAL, Koen; NL
CADEE, Theodorus, Petrus, Maria; NL
Agent: SLENDERS, Peter; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven, NL
Priority Data:
61/592,24330.01.2012US
61/652,92430.05.2012US
61/710,28805.10.2012US
Title (EN) LITHOGRAPHIC APPARATUS COMPONENT AND LITHOGRAPHIC APPARATUS
(FR) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Abstract:
(EN) A lithographic apparatus component, such as a metrology system or an optical element (e.g., a mirror) is provided with a temperature control system for controlling deformation of the component. The control system includes channels provided close to a surface of the component through which a two phase cooling medium is supplied. The metrology system measures a position of at least a moveable item with respect to a reference position and includes a metrology frame connected to the reference position. An encoder is connected to the moveable item and constructed and arranged to measure a relative position of the encoder with respect to a reference grid. The reference grid may be provided directly on a surface of the metrology frame. A lithographic projection apparatus may have the metrology system for measuring a position of the substrate table with respect to the projection system.
(FR) Un composant d'un appareil lithographique, tel qu'un système de métrologie ou un élément optique (par exemple un miroir) est pourvu d'un système de régulation de température pour réguler la déformation du composant. Le système de régulation comprend des canaux disposés à proximité d'une surface du composant, à travers lesquels une substance de refroidissement à deux phases est fournie. Le système de métrologie mesure la position d'au moins un objet mobile par rapport à une position de référence, et comprend un cadre de métrologie lié à la position de référence. Un codeur est relié à l'objet mobile et a une conception et un agencement lui permettant de mesurer la position relative du codeur par rapport à une grille de référence. La grille de référence peut être disposée directement sur une surface du cadre de métrologie. Un appareil de projection lithographique peut comprendre le système de métrologie pour mesurer la position de la table à substrat par rapport au système de projection.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)