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1. (WO2013113572) RADIATION CURABLE ETCH RESISTANT INKJET INK PRINTING
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/113572    International Application No.:    PCT/EP2013/050943
Publication Date: 08.08.2013 International Filing Date: 18.01.2013
IPC:
C09D 11/10 (2006.01), C23F 1/02 (2006.01)
Applicants: AGFA-GEVAERT [BE/BE]; IP Department 3622 Septestraat 27 B-2640 Mortsel (BE)
Inventors: SMET, Stefaan; (BE).
ZUTTERMAN, Freddy; (BE).
VERMEERSCH, Peter; (BE).
LOCCUFIER, Johan; (BE).
WILLEMS, Ann; (BE)
Priority Data:
12153196.6 31.01.2012 EP
61/593,338 01.02.2012 US
Title (EN) RADIATION CURABLE ETCH RESISTANT INKJET INK PRINTING
(FR) IMPRESSION À ENCRE À JET D'ENCRE RÉSISTANTE À LA GRAVURE DURCISSABLE PAR RAYONNEMENT
Abstract: front page image
(EN)The present invention is drawn towards methods of inkjet printing radiation curable inkjet inks forming a protective layer during an etching process, wherein the radiation curable inkjet ink includes at least 70 percent by weight of a polymerizable composition based on the total weight of radiation curable inkjet ink, wherein the polymerizable composition has an oxygen fraction OFR > 0.250 and a weighted polymerizable functionality WPF ≥ 0.0050, and wherein the polymerizable composition contains no polymerizable compound with an ethylenic double bond and including a phosphoester group or a carboxylic acid group in the molecule thereof.
(FR)La présente invention concerne des procédés d'impression à jet d'encre des encres pour jet d'encre durcissable par rayonnement formant une couche protectrice au cours d'un processus de gravure, l'encre pour jet d'encre durcissable par rayonnement comprenant au moins 70 pour cent en poids d'une composition polymérisable sur la base du poids total d'encre pour jet d'encre durcissable par rayonnement, la composition polymérisable présentant un taux d'oxygène OFR > 0,250 et une fonctionnalité polymérisable pondérée WPF ≥ 0,0050, et la composition polymérisable ne contenant pas de composé polymérisable avec une double liaison éthylénique et comprenant un groupe de phosphoester ou un groupe d'acide carboxylique dans sa molécule.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)