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1. (WO2013113480) PROJECTION EXPOSURE APPARATUS COMPRISING A MEASURING SYSTEM FOR MEASURING AN OPTICAL ELEMENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/113480    International Application No.:    PCT/EP2013/000200
Publication Date: 08.08.2013 International Filing Date: 23.01.2013
IPC:
G02B 27/00 (2006.01), G01N 21/41 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE)
Inventors: BLEIDISTEL, Sascha; (DE).
HARTJES, Joachim; (DE).
GRUNER, Toralf; (DE)
Agent: SUMMERER, Christian; Zeuner Summerer Stütz Nußbaumstraße 8 80336 München (DE)
Priority Data:
10 2012 201 410.1 01.02.2012 DE
61/593,349 01.02.2012 US
Title (EN) PROJECTION EXPOSURE APPARATUS COMPRISING A MEASURING SYSTEM FOR MEASURING AN OPTICAL ELEMENT
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION COMPORTANT UN SYSTÈME DE MESURE SERVANT À MESURER UN ÉLÉMENT OPTIQUE
Abstract: front page image
(EN)A projection exposure apparatus (10) for microlithography comprises a measuring system (50) for measuring an optical element of the projection exposure apparatus. The measuring system (50) comprises: an irradiation device (54), which is configured to radiate measuring radiation (62) in different directions (64) onto the optical element (20), such that the measuring radiation (62) covers a respective optical path length (68) within the optical element (20) for the different directions (64) of incidence, a detection device (56), which is configured to measure, for the respective direction (64) of incidence, the corresponding optical path length covered by the measuring radiation (62) in the optical element (20), and an evaluation device, which is configured to determine a spatially resolved distribution of the refractive index in the optical element (20) by computed-tomographic back projection of the measured path lengths taking account of the respective direction of incidence.
(FR)L'invention concerne un appareil (10) d'exposition par projection pour microlithographie, comportant un système (50) de mesure servant à mesurer un élément optique de l'appareil d'exposition par projection. Le système (50) de mesure comporte : un dispositif (54) d'irradiation, qui est configuré pour émettre un rayonnement (62) de mesure dans différentes directions (64) sur l'élément optique (20), de telle façon que le rayonnement (62) de mesure parcoure une longueur respective (68) de chemin optique au sein de l'élément optique (20) pour les différentes directions (64) d'incidence, un dispositif (56) de détection qui est configuré pour mesurer, pour la direction (64) d'incidence considérée, la longueur correspondante de chemin optique parcourue par le rayonnement (62) de mesure dans l'élément optique (20), et un dispositif d'évaluation qui est configuré pour déterminer une distribution résolue spatialement de l'indice de réfraction dans l'élément optique (20) par rétroprojection tomographique informatisée des longueurs mesurées de chemin optique en tenant compte de la direction d'incidence considérée.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)