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1. (WO2013112383) MOLYBDENUM ALLYL COMPLEXES AND USE THEREOF IN THIN FILM DEPOSITION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/112383    International Application No.:    PCT/US2013/022260
Publication Date: 01.08.2013 International Filing Date: 18.01.2013
IPC:
C07F 11/00 (2006.01), C23C 16/00 (2006.01)
Applicants: SIGMA-ALDRICH CO. LLC [US/US]; 3050 Spruce St. St. Louis, MO 63103 (US)
Inventors: ODEDRA, Rajesh; (GB).
GARRATT, Shaun; (GB).
SALY, Mark; (US).
KANJOLIA, Ravi; (US)
Agent: RAKERS, Leanne, M.; Harness, Dickey & Pierce, P.L.C. 7700 Bonhomme, Suite 400 St. Louis, MO 63105 (US)
Priority Data:
61/591,002 26.01.2012 US
61/711,770 10.10.2012 US
Title (EN) MOLYBDENUM ALLYL COMPLEXES AND USE THEREOF IN THIN FILM DEPOSITION
(FR) COMPLEXES DE MOLYBDÈNE D'ALLYLE ET LEUR UTILISATION EN DÉPÔT DE FILM MINCE
Abstract: front page image
(EN)Molybdenum complexes and use thereof in thin film deposition, such as CVD and ALD are provided herein. The molybdenum complexes correspond in structure to Formula (I) and Formula (II), wherein R1, R3, R5, R7, R8 and R10 are independently and at each occurrence alkyl; R2, R6 and R9 are independently alkyl; R4 and R11 are independently and at each occurrence selected from the group consisting of alkyl, alkenyl, and alkynyl; x, z, a, c, d and f are independently zero, 1, or 2; y, b and e are independently zero or 1; and n and m are independently zero to 5.
(FR)L'invention concerne des complexes de molybdène et leur utilisation en dépôt de film mince, comme le CVD et l'ALD. Les complexes de molybdène correspondent en structure à la Formule (I) et à la Formule (II), dans lesquelles R1, R3, R5, R7, R8 et R10 sont un groupe alkyle indépendamment l'un de l'autre et à chaque occurrence ; R2, R6 et R9 sont indépendamment l'un de l'autre un groupe alkyle ; R4 et R11 sont indépendamment l'un de l'autre et à chaque occurrence sélectionnés dans le groupe constitué d'alkyle, d'alkényle et d'alkynyle ; x, z, a, c, d'et f sont indépendamment zéro, 1, ou 2 ; y, b et e sont indépendamment zéro ou 1 ; et n et m sont indépendamment zéro à 5.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)