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1. (WO2013112196) CLEANING MODULE AND PROCESS FOR PARTICLE REDUCTION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/112196    International Application No.:    PCT/US2012/048199
Publication Date: 01.08.2013 International Filing Date: 25.07.2012
IPC:
H01L 21/304 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US) (For All Designated States Except US).
KO, Sen-Hou [US/US]; (US) (For US Only).
KARUPPIAH, Lakshmanan [US/US]; (US) (For US Only)
Inventors: KO, Sen-Hou; (US).
KARUPPIAH, Lakshmanan; (US)
Agent: PATTERSON, B. Todd; Patterson & Sheridan, LLP 24 Greenway Plaza, Suite 1600 Houston, TX 77046 (US)
Priority Data:
61/590,034 24.01.2012 US
Title (EN) CLEANING MODULE AND PROCESS FOR PARTICLE REDUCTION
(FR) MODULE DE NETTOYAGE ET PROCÉDÉ DE RÉDUCTION DE PARTICULES
Abstract: front page image
(EN)A method and apparatus for cleaning a substrate are provided. In one embodiment, a particle cleaning module is provided that includes a substrate holder and a pad holder disposed in a housing, and an actuator operable to move the pad holder relative to the substrate holder. The substrate holder is configured to retain and rotate a substrate in a substantially vertical orientation. The pad holder has a pad retaining surface that faces the substrate holder in a parallel and spaced apart relation. The pad holder is rotatable on an axis parallel to an axis on which the substrate holder rotates. The actuator is operable to move the pad holder relative to the substrate holder as to change a distance defined between the first axis and the second axis.
(FR)L'invention concerne un procédé et un appareil de nettoyage d'un substrat. Selon un mode de réalisation, un module de nettoyage de particules comprend un support pour substrat et un support pour tampon placé dans un logement, ainsi qu'un actionneur pouvant fonctionner pour déplacer le support pour tampon par rapport au support pour substrat. Le support pour substrat est conçu pour retenir et faire tourner un substrat selon une orientation sensiblement verticale. Le support pour tampon présente une surface de retenue de tampon qui fait face au support pour substrat, de façon parallèle et espacée. Le support pour tampon peut tourner sur un axe parallèle à un axe sur lequel tourne le support pour substrat. L'actionneur peut fonctionner pour déplacer le support pour tampon par rapport au support pour substrat, de manière à modifier une distance définie entre le premier axe et le second axe.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)