WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2013110434) METHOD FOR PRODUCING ELECTRICALLY SEMICONDUCTIVE OR CONDUCTIVE LAYERS WITH IMPROVED CONDUCTIVITY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/110434    International Application No.:    PCT/EP2013/000063
Publication Date: 01.08.2013 International Filing Date: 10.01.2013
IPC:
H01L 21/02 (2006.01), H01L 21/368 (2006.01)
Applicants: MERCK PATENT GMBH [DE/DE]; Frankfurter Strasse 250 64293 Darmstadt (DE)
Inventors: HAEMING, Marc; (DE).
KLYSZCZ, Andreas; (DE).
BONRAD, Klaus; (DE).
KIRSCH, Peer; (DE).
ISSANIN, Alexander; (DE).
WALKER, Daniel; (DE)
Priority Data:
10 2012 001 508.9 27.01.2012 DE
10 2012 006 045.9 27.03.2012 DE
Title (DE) VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG ELEKTRISCH HALBLEITENDER ODER LEITENDER SCHICHTEN MIT VERBESSERTER LEITFÄHIGKEIT
(EN) METHOD FOR PRODUCING ELECTRICALLY SEMICONDUCTIVE OR CONDUCTIVE LAYERS WITH IMPROVED CONDUCTIVITY
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE COUCHES ÉLECTRIQUEMENT SEMI-CONDUCTRICES OU CONDUCTRICES PRÉSENTANT UNE CONDUCTIVITÉ AMÉLIORÉE
Abstract: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung elektrisch halbleitender oder leitender Metalloxidschichten mit verbesserter Leitfähigkeit, die sich insbesondere für die Herstellung flexibler Dünnfilmtransistoren eignen, auf damit hergestellte Metalloxidschichten sowie deren Verwendung zur Herstellung elektronischer Bauteile.
(EN)The invention relates to a method for producing electrically semiconductive or conductive metal oxide layers with improved conductivity that are particularly suitable for the production of flexible thin-film transistors, to metal oxide layers produced therewith, and to the use thereof for producing electronic components.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication de couches d'oxydes métalliques électriquement semi-conductrices ou conductrices présentant une conductivité améliorée, notamment destinées à la fabrication de transistors à couches minces flexibles, des couches d'oxydes métalliques fabriquées au moyen de ce procédé, et leur utilisation pour la fabrication de composants électroniques.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)