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1. (WO2013059580) ELECTROMECHANICAL SYSTEMS VARIABLE CAPACITANCE DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/059580    International Application No.:    PCT/US2012/061005
Publication Date: 25.04.2013 International Filing Date: 19.10.2012
Chapter 2 Demand Filed:    15.08.2013    
IPC:
G02B 26/08 (2006.01), H01G 5/16 (2006.01)
Applicants: QUALCOMM MEMS TECHNOLOGIES, INC. [US/US]; 5775 Morehouse Drive San Diego, California 92121-1714 (US)
Inventors: FELNHOFER, Daniel; (US).
ZHANG, Wenyue; (US).
LAN, Je-Hsiung; (US)
Agent: GRIFFITH, John F.; Weaver Austin Villeneuve & Sampson LLP P.O. Box 70250 Oakland, California 94612-0250 (US)
Priority Data:
13/279,089 21.10.2011 US
Title (EN) ELECTROMECHANICAL SYSTEMS VARIABLE CAPACITANCE DEVICE
(FR) DISPOSITIF À CAPACITÉ VARIABLE AVEC SYSTÈMES ÉLECTROMÉCANIQUES
Abstract: front page image
(EN)This disclosure provides systems, methods and apparatus for electromechanical systems variable capacitance devices. In one aspect, an electromechanical systems variable capacitance device includes a substrate with a first metal layer including a first bias electrode overlying the substrate. A member suspended above the first metal layer includes a dielectric beam and a second metal layer including a first radio frequency electrode and a ground electrode. The member and the first metal layer define a first air gap. A third metal layer over the member includes a second bias electrode, and the third metal layer and the member define a second air gap. The member includes a plane of symmetry substantially parallel a plane containing the first bias electrode.
(FR)L'invention concerne des systèmes, des procédés et un appareil pour dispositifs à capacité variable avec systèmes électromécaniques. Selon un aspect, un dispositif à capacité variable avec systèmes électromécaniques comprend un substrat ayant une première couche métallique comprenant une première électrode de polarisation qui recouvre le substrat. Un élément suspendu au-dessus de la première couche métallique comprend une poutre diélectrique et une deuxième couche métallique comprenant une première électrode de radiofréquences et une électrode de masse. L'élément et la première couche métallique définissent un premier entrefer. Une troisième couche métallique au-dessus de l'élément comprend une deuxième électrode de polarisation et la troisième couche métallique et l'élément définissent un deuxième entrefer. L'élément comprend un plan de symétrie qui est sensiblement parallèle à un plan contenant la première électrode de polarisation.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)