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1. (WO2013058385) LARGE-SIZED PHASE-SHIFT MASK, AND METHOD FOR PRODUCING LARGE-SIZED PHASE-SHIFT MASK
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/058385    International Application No.:    PCT/JP2012/077157
Publication Date: 25.04.2013 International Filing Date: 19.10.2012
IPC:
G03F 1/26 (2012.01), G03F 1/46 (2012.01)
Applicants: DAI NIPPON PRINTING CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Ichigaya-kagacho 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1628001 (JP)
Inventors: KINOSHITA, Kazuki; (JP).
TOBITA, Atsushi; (JP).
NISHIMA, Satoru; (JP)
Agent: YAMASHITA, Akihiko; c/o TOKYO CENTRAL PATENT FIRM, 3rd Floor, Oak Building Kyobashi, 16-10, Kyobashi 1-chome, Chuou-ku, Tokyo 1040031 (JP)
Priority Data:
2011-231529 21.10.2011 JP
Title (EN) LARGE-SIZED PHASE-SHIFT MASK, AND METHOD FOR PRODUCING LARGE-SIZED PHASE-SHIFT MASK
(FR) MASQUE À DÉPHASAGE DE GRANDE TAILLE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN MASQUE À DÉPHASAGE DE GRANDE TAILLE
(JA) 大型位相シフトマスクおよび大型位相シフトマスクの製造方法
Abstract: front page image
(EN)Provided are: a phase-shift mask which is a large-sized photomask that enables the exposure of a large-sized area to light and has a constitution suitable for the formation of a fine pattern; and a method for producing the phase-shift mask. A large-sized phase-shift mask is produced, which can be produced easily and enables the transfer of a fine pattern. The large-sized phase-shift mask has such a constitution that a light-shielding film contains chromium or a chromium compound as the main component, a phase-shift film contains chromium oxide or oxidized chromium nitride as the main component, and the phase-shift film is laminated on the light-shielding film in the light-shielding area. The reflectance of the light-shielding area can be reduced by employing such a constitution that an anti-reflective film comprising a chromium compound is additionally provided between the light-shielding film and the phase-shift film.
(FR)La présente invention concerne un masque à déphasage qui est un photomasque de grande taille permettant l'exposition d'une zone de grande taille à la lumière et ayant une constitution appropriée pour la formation d'un motif fin. L'invention concerne également un procédé de production du masque à déphasage. Le procédé permet de fabriquer facilement un masque à déphasage de grande taille permettant le transfert d'un motif fin. Le masque à déphasage de grande taille a une constitution telle qu'un film écran à la lumière contient du chrome ou un composé de chrome comme constituant principal, un film à déphasage contient de l'oxyde de chrome ou du nitrure de chrome oxydé comme constituant principal, et le film à déphasage est stratifié sur le film écran à la lumière dans la zone écran à la lumière. On peut diminuer la réflectance de la zone écran à la lumière en employant une constitution telle qu'un film antireflet comprenant un composé de chrome est disposé en plus entre le film écran à la lumière et le film à déphasage.
(JA) 大サイズの領域を露光する大型のフォトマスクで、微細なパターンを形成するのに好適な構成の位相シフトマスク、およびその製造方法を提供する。遮光膜はクロムまたはクロム化合物を主成分とし、位相シフト膜は酸化クロムないし酸化窒化クロムを主成分とし、前記遮光領域では遮光膜上に位相シフト膜が積層されている構成とすることで、製造が容易で微細なパターンを転写可能な大型位相シフトマスクを得た。また、遮光膜と位相シフト膜の間に、クロム化合物からなる反射防止膜をさらに有する構成として遮光領域の反射率を抑えた。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)