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1. (WO2013058250) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/058250    International Application No.:    PCT/JP2012/076742
Publication Date: 25.04.2013 International Filing Date: 16.10.2012
IPC:
G03F 7/004 (2006.01), C08F 220/28 (2006.01), C08F 220/38 (2006.01), C08K 5/41 (2006.01), C08L 33/14 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: JSR CORPORATION [JP/JP]; 9-2, Higashi-Shinbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058640 (JP)
Inventors: KASAHARA Kazuki; (JP).
NAKAHARA Kazuo; (JP).
MIYATA Hiromu; (JP).
NAGAI Tomoki; (JP)
Agent: AMANO Kazunori; c/o Amano & Partners, 6th Floor, Fujikogyo-Nishimotomachi Building, 1-18, Aioi-cho 1-chome, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo 6500025 (JP)
Priority Data:
2011-228289 17.10.2011 JP
Title (EN) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONNEMENTS
(JA) 感放射線性樹脂組成物
Abstract: front page image
(EN)The present invention is a radiation-sensitive resin composition comprising: [A] a compound represented by formula (1); and [B] a base polymer having at least one structural unit selected from the group consisting of a structural unit derived from a (meth)acrylate containing a lactone skeleton, a structural unit derived from a (meth)acrylate containing a cyclic carbonate skeleton, a structural unit derived from a (meth)acrylate containing a sultone skeleton, and a structural unit derived from a (meth)acrylate having a polar group. In formula (1), R1 represents a monovalent cyclic organic group having a cyclic ester structure or a cyclic ketone structure; R2 represents a single bond or -CH2-; X represents -O-*, -COO-*, -O-CO-O-* or -SO2-O-*, wherein * represents the site to which R3 is bound; R3 represents a bivalent linear hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms; and M+ represents a monovalent cation. R1-R2-X-R3-CHF-CF2-SO3-M+ (1)
(FR)La présente invention concerne une composition de résine sensible aux rayonnements comprenant : [A] un composé représenté par la formule (1) ; et [B] un polymère de base comprenant au moins une unité structurelle choisie dans le groupe constitué d'une unité structurelle dérivée d'un (méth)acrylate contenant un squelette de lactone, d'une unité structurelle dérivée d'un (méth)acrylate contenant un squelette de carbonate cyclique, d'une unité structurelle dérivée d'un (méth)acrylate contenant un squelette de sultone, et d'une unité structurelle dérivée d'un (méth)acrylate comprenant un groupe polaire. Dans la formule (1), R1 représente un groupe organique cyclique monovalent ayant une structure d'ester cyclique ou une structure de cétone cyclique ; R2 représente une liaison simple ou -CH2- ; X représente -O-*, -COO-*, -O-CO-O-* ou -SO2-O-*, * représentant le site auquel R3 est lié ; R3 représente un groupe hydrocarbure linéaire bivalent comprenant 1 à 5 atomes de carbone ; et M+ représente un cation monovalent.
(JA) 本発明は、[A]下記式(1)で表される化合物、並びに[B]ラクトン骨格を含む(メタ)アクリレート由来の構造単位、環状カーボネート骨格を含む(メタ)アクリレート由来の構造単位、スルトン骨格を含む(メタ)アクリレート由来の構造単位、及び極性基を有する(メタ)アクリレート由来の構造単位からなる群より選ばれる少なくとも1種を有するベース重合体を含有する感放射線性樹脂組成物である。下記式(1)中、Rは、環状エステル構造又は環状ケトン構造を有する1価の環状有機基である。Rは、単結合又は-CH-である。Xは、-O-*、-COO-*、-O-CO-O-*又は-SO-O-*である。但し、*は、Rとの結合部位を示す。Rは、炭素数1~5の2価の鎖状炭化水素基である。Mは、1価のカチオンである。 R-R-X-R-CHF-CF-SO-+ (1)
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)