WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2013058050) METHOD FOR CLEANING TRANSPARENT ELECTRODE FILM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/058050    International Application No.:    PCT/JP2012/074068
Publication Date: 25.04.2013 International Filing Date: 20.09.2012
IPC:
C23C 14/00 (2006.01), C23C 16/44 (2006.01)
Applicants: IWATANI CORPORATION [JP/JP]; 6-4, Hommachi 3-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410053 (JP).
HEMMI Slide Rule Co., Ltd. [JP/JP]; 4, Kanda-Surugadai 4-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010062 (JP)
Inventors: KOIKE Kunihiko; (JP).
YOSHINO Yu; (JP).
SENOO Takehiko; (JP).
AZUMA Shuhei; (JP).
KATO Yuji; (JP)
Agent: SUZUE Shoji; Umeda East Building, 5-15, Taiyujicho, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300051 (JP)
Priority Data:
2011-230774 20.10.2011 JP
Title (EN) METHOD FOR CLEANING TRANSPARENT ELECTRODE FILM
(FR) PROCÉDÉ PERMETTANT DE NETTOYER UN FILM D'ÉLECTRODE TRANSPARENT
(JA) 透明電極膜のクリーニング方法
Abstract: front page image
(EN)The present invention is a method for cleaning a transparent electrode film which adheres to the inner surface of a chamber of a transparent conductive film-forming apparatus that produces a zinc oxide film as a transparent conductive film. A hydrogen-rich methyl chloride-hydrogen mixed gas atmosphere is formed within the chamber with use of a methyl chloride gas and a hydrogen gas, and a transparent electrode film adhering to the inner surface of the chamber is removed by generating plasma within the chamber that is in the methyl chloride-hydrogen mixed gas atmosphere.
(FR)La présente invention se rapporte à un procédé permettant de nettoyer un film d'électrode transparent qui adhère à la surface interne d'une chambre d'un appareil de formation de film conducteur transparent qui produit un film d'oxyde de zinc comme film conducteur transparent. Une atmosphère gazeuse mixte composée d'hydrogène et de chlorure de méthyle riche en hydrogène est formée dans la chambre en utilisant du chlorure de méthyle gazeux et de l'hydrogène gazeux, et un film d'électrode transparent qui adhère à la surface interne de la chambre est retiré par production de plasma dans la chambre qui se trouve dans l'atmosphère gazeuse mixte composée d'hydrogène et de chlorure de méthyle.
(JA) 透明導電膜として酸化亜鉛膜を生成する透明導電膜生成装置のチャンバー内面に付着した透明電極膜クリーニングする方法である。チャンバー内を塩化メチルガスと水素ガスとで水素リッチの塩化メチルー水素混合ガス雰囲気に形成し、この塩化メチルー水素混合ガス雰囲気にあるチャンバー内にプラズマを発生させてチャンバー内面に付着した透明電極膜を除去するようにした。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)