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1. (WO2013057997) METHOD FOR PRODUCING CHLOROPOLYSILANE, AND FLUID BED REACTION DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/057997    International Application No.:    PCT/JP2012/068946
Publication Date: 25.04.2013 International Filing Date: 26.07.2012
IPC:
C01B 33/107 (2006.01), B01J 8/24 (2006.01), B01J 8/40 (2006.01)
Applicants: TOAGOSEI CO., LTD. [JP/JP]; 1-14-1, Nishi-Shimbashi, Minato-ku, Tokyo 1058419 (JP) (For All Designated States Except US).
MORITA, Masatoshi [JP/JP]; (JP) (For US Only).
KANIE, Tatsuya [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TAGUCHI, Hiromu [JP/JP]; (JP) (For US Only).
TAKASHIMA, Kanemasa [JP/JP]; (JP) (For US Only)
Inventors: MORITA, Masatoshi; (JP).
KANIE, Tatsuya; (JP).
TAGUCHI, Hiromu; (JP).
TAKASHIMA, Kanemasa; (JP)
Agent: UENO, Noboru; KS Iseya Building 8th Floor, 21-23, Sakae 3-chome, Naka-ku, Nagoya-shi, Aichi 4600008 (JP)
Priority Data:
2011-228756 18.10.2011 JP
Title (EN) METHOD FOR PRODUCING CHLOROPOLYSILANE, AND FLUID BED REACTION DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN CHLOROPOLYSILANE, ET DISPOSITIF DE RÉACTION À LIT FLUIDISÉ
(JA) クロロポリシランの製造方法および流動床反応装置
Abstract: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a method for producing chloropolysilane, wherein it is possible to improve yield when obtaining chloropolysilane by means of a fluid reaction, and the blockage caused by the attachment of high-order silicon chloride, which may be produced as a by-product, is inhibited. When obtaining chloropolysilane by reacting fluidized silicon particles or silicon alloy particles with a chlorine gas, an outlet filter (22) for inhibiting fine particles floating in the air by means of the flow from flowing out from a distillate outlet (20) from which a distillate component is distilled is disposed in the interior of a reaction tank (12) further upstream than the range in which the silicon particles or the silicon alloy particles flow and in front of the distillate outlet (20), and the temperature of the outlet filter (22) is set in the range of 210 to 350°C.
(FR)L'objet de cette invention est de pourvoir à un procédé de production d'un chloropolysilane qui permet d'améliorer le rendement quand le chloropolysilane est obtenu au moyen d'une réaction en lit fluidisé et d'éviter l'engorgement provoqué par des dépôts de chlorure de silicium d'ordre supérieur, susceptibles de se former à titre de sous-produit. Quand le chloropolysilane est obtenu par réaction de particules fluidisées de silicium ou à base d'un alliage de silicium avec un gaz chlore, un filtre de sortie (22) destiné à inhiber les fines particules flottant dans l'air provenant du flux s'écoulant d'une sortie de distillat (20) par laquelle un composant de distillat est distillé, est placé à l'intérieur d'une cuve de réaction (12), plus en amont de la plage d'écoulement des particules fluidisées de silicium ou à base d'un alliage de silicium et situé face à ladite sortie de distillat (20), la température dudit filtre de sortie (22) étant fixée dans la plage de 210 à 350°C.
(JA) 流動反応によってクロロポリシランを得る際に、歩留まりを向上できるとともに副生し得る高次ケイ素塩化物の付着による閉塞を抑えたクロロポリシランの製造方法を提供すること。 流動させたケイ素粒子またはケイ素合金粒子に塩素ガスを反応させてクロロポリシランを得る際に、反応槽12内部において、ケイ素粒子またはケイ素合金粒子が流動する範囲よりも上側で、留出成分を留出させる留出口20の手前に、流動によって舞い上がる微粒子が留出口20から流出するのを抑える出口フィルター22を設けるとともに、出口フィルター22の温度を210~350℃の範囲内に設定する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)