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1. (WO2013057228) DIRECT LIQUID DEPOSITION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/057228    International Application No.:    PCT/EP2012/070711
Publication Date: 25.04.2013 International Filing Date: 19.10.2012
IPC:
C23C 14/12 (2006.01), C23C 14/24 (2006.01), B01B 1/00 (2006.01), C23C 14/22 (2006.01), B01D 3/10 (2006.01), B01D 1/00 (2006.01)
Applicants: OERLIKON ADVANCED TECHNOLOGIES AG [LI/LI]; Iramali 18 FL-9496 Balzers (LI)
Inventors: VOSER, Stephan; (CH).
RAVELLI, Fabio Antonio; (IT).
GAECHTER, Bruno; (CH)
Agent: TROESCH SCHEIDEGGER WERNER AG; Jacques Troesch Schwäntenmos 14 CH-8126 Zumikon (CH)
Priority Data:
61/550,013 21.10.2011 US
61/642,074 03.05.2012 US
Title (EN) DIRECT LIQUID DEPOSITION
(FR) DÉPÔT LIQUIDE DIRECT
Abstract: front page image
(EN)Liquid precursor material of a coating substance and a solvent is provided in a reservoir. In one variant the liquid precursor material is distilled, the resultant liquid coating substance is vaporized and ejected through a vapour distribution nozzle arrangement (7) into a vacuum recipient (3) and onto a substrate (5) to be coated. Alternatively, the liquid precursor material is directly vaporized. From the two-component vapour coating substance vapour is applied to the substrate (5') to be coated. In this variant separation of solvent vapour and coating substance vapour is performed especially downstream vaporizing. The vapour distribution nozzle arrangement has a vapour input (474) at the apex of a recessed vapour distribution element (470) and a single surface deflection element (476) directing the vapour to the walls (478) of the recess (472).
(FR)L'invention concerne un matériau précurseur liquide d'une substance de revêtement et d'un solvant qui est disposé dans un réservoir. Selon une variante, le matériau précurseur liquide est distillé, la substance de revêtement liquide résultante est vaporisée et éjectée par un agencement de buse de distribution de vapeur (7) dans un récipient sous vide (3) et sur un substrat (5) à revêtir. Dans un autre mode de réalisation, le matériau précurseur liquide est directement vaporisé. A partir de la substance de revêtement sous forme de vapeur à deux constituants, de la vapeur est appliquée sur le substrat (5') à revêtir. Dans ce mode de réalisation, une séparation de la vapeur de solvant et de la vapeur de substance de revêtement est réalisée, notamment lors de la vaporisation en aval. L'agencement de buse de distribution de vapeur comporte une entrée (474) de vapeur au niveau de l'apex d'un élément (470) de distribution de vapeur évidé et un élément (476) de déviation à surface unique qui dirige la vapeur vers les parois (478) de l'évidement (472).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)