WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2013057152) METHOD FOR PRODUCING A REFRACTIVE OR DIFFRACTIVE OPTICAL DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/057152    International Application No.:    PCT/EP2012/070593
Publication Date: 25.04.2013 International Filing Date: 17.10.2012
Chapter 2 Demand Filed:    06.05.2013    
IPC:
G02B 5/18 (2006.01), H01L 21/302 (2006.01), B29D 11/00 (2006.01)
Applicants: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES [FR/FR]; 25 rue Leblanc Bâtiment "Le Ponant D" F-75015 Paris (FR)
Inventors: HEITZMANN, Michel; (FR)
Agent: HAUTIER, Nicolas; Cabinet Hautier 20 Rue de la Liberté F-06000 Nice (FR)
Priority Data:
1159382 18.10.2011 FR
Title (EN) METHOD FOR PRODUCING A REFRACTIVE OR DIFFRACTIVE OPTICAL DEVICE
(FR) PROCEDE DE REALISATION D'UN DISPOSITIF OPTIQUE REFRACTIF OU DIFFRACTIF
Abstract: front page image
(EN)The present invention relates, in particular, to a method for producing a refractive or diffractive optical device, the method involving producing, in a first layer (10), at least one angled general profile (110) which is approximated by a stepped profile having a plurality of steps (100), wherein the production of the profile (110) includes the following steps: a step of forming buffer patterns (21) on the first layer (10), and at least one sequence of steps including: a step of forming masking patterns (40a, 50a, 60a), which is carried out such that each masking pattern (40a, 50a, 60a) has at least one edge (40b, 40c, 50b, 50c, 60b, 60c) located above a buffer pattern (21) and covers at least one area of the first layer (10) that is not masked by the buffer patterns (21), the step of forming the masking patterns (40a, 50a, 60a) further being carried out so as to define, for the fist layer (10), a plurality of free areas (20b, 30a) that are not masked by the masking patterns (40a, 50a, 60a) or by the buffer patterns (21); and a step of engraving the free areas (20b, 30a) in order to form grooves in the first layer (10), characterized in that producing the profile (110) also includes: a step of removing the masking patterns (40a, 50a, 60a), a step of removing the buffer patterns (21), thereby revealing walls (10a) previously covered by the buffer patterns (21), and then a step of isotropic engraving in order to excise the walls.
(FR)La présente invention a notamment pour objet un procédé de réalisation d'un dispositif optique réfractif ou diffractif, le procédé comprenant la réalisation, dans une première couche (10), d'au moins un profil (110) général incliné approximé par un profil en escalier ayant une pluralité des marches (100); la réalisation du profil (110) comprenant les étapes suivantes: une étape de formation de motifs tampon (21) sur la première couche (10) et au moins une séquence d'étapes comprenant: -une étape de formation de motifs de masquage (40a, 50a, 60a), effectuée de sorte que chaque motif de masquage (40a, 50a, 60a) présente au moins un bord (40b, 40c, 50b, 50c, 60b, 60c) situé au dessus d'un motif tampon (21) et recouvre au moins une zone de la première couche (10) non masquée par les motifs tampon (21), l'étape de formation des motifs de masquage (40a, 50a, 60a) étant en outre effectuée de sorte à définir pour la première couche (10) une pluralité de zones libres (20b, 30a) non masquées par les motifs de masquage (40a, 50a, 60a) ou par les motifs tampon (21); -une étape de gravure des zones libres (20b, 30a) pour former des tranchées dans la première couche (10); caractérisé en ce que la réalisation du profil (110) comprend également: -une étape de retrait des motifs de masquage (40a, 50a, 60a), une étape de retrait des motifs tampon (21) laissant apparaître des murs (10a) préalablement recouverts par les motifs tampon (21), puis une étape de gravure isotrope pour supprimer les murs.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: French (FR)
Filing Language: French (FR)