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1. (WO2013057045) MILD COSMETIC CLEANSING COMPOSITION
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/057045    International Application No.:    PCT/EP2012/070249
Publication Date: 25.04.2013 International Filing Date: 12.10.2012
IPC:
A61K 8/37 (2006.01), A61K 8/46 (2006.01), A61Q 5/02 (2006.01), A61Q 19/10 (2006.01)
Applicants: HENKEL AG & CO. KGAA [DE/DE]; Henkelstr. 67 40589 Düsseldorf (DE)
Inventors: FAHL, Madlen; (DE).
HENTRICH, Dirk; (DE).
SCHRÖDER, Thomas; (DE).
MEYER, Jens; (DE)
Priority Data:
10 2011 084 888.6 20.10.2011 DE
Title (DE) MILDES KOSMETISCHES REINIGUNGSMITTEL
(EN) MILD COSMETIC CLEANSING COMPOSITION
(FR) NETTOYANT COSMÉTIQUE DOUX
Abstract: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein mildes kosmetisches Reinigungsmittel, das in einem geeigneten Träger a) 1 bis 6 Gew.-% mindestens eines anionischen Tensids der nachfolgenden Formel (I), in der R1 für einen linearen oder verzweigten, gesättigten oder ungesättigten Alkylrest mit 6 bis 30 Kohlenstoffatomen steht, mindestens einer der Reste R2 bis R5 für einen C1-C4-Alkylrest, und die anderen Reste unabhängig voneinander für ein Wasserstoffatom oder einen C1-C4- Alkylrest stehen, und M+ für ein Ammonium-, ein Alkanolammonium oder ein Metallkation steht, b) 2 bis 10 Gew.-% mindestens eines amphoteren und/oder zwitterionischen Tensids und c) 0,5 bis 10 Gew.-% mindestens eines nichtionischen Tensids und/oder mindestens eines nichtionischen Emulgators enthält, der ausgewählt ist aus mindestens einer der nachfolgenden Gruppen der - Alkyl(oligo)glycoside, - Aminoxide und/oder - Glycerinmono- und/oder -di-(C6-C24-)Carbonsäureester, wobei sich die Mengenangaben auf das Gesamtgewicht des Reinigungsmittels beziehen.
(EN)The invention relates to a mild cosmetic cleansing composition which comprises, in a suitable carrier, a) 1 to 6 Gew.-% by weight of at least one anionic surfactant of the following formula (I), in which R1 is a linear or branched, saturated or unsaturated alkyl radical having 6 to 30 carbon atoms, at least one of the R2 to R5 radicals is a C1-C4- alkyl radical, and the other radicals are each independently a hydrogen atom or a C1-C4- alkyl radical, and M+ is an ammonium, alkanolammonium or metal cation, b) 2 to 10 Gew.-% by weight of at least one amphoteric and/or zwitterionic surfactant and c) 0.5 to 10 Gew.-% by weight of at least one nonionic surfactant and/or at least one nonionic emulsifier selected from at least one of the following groups: - alkyl (oligo)glycosides, - amine oxides and/or - glyceryl mono- and/or di(C6-C24-)carboxylates, where the stated amounts are based on the total weight of the cleaning composition.
(FR)Nettoyant cosmétique doux qui contient, dans un excipient approprié, a) 1 à 6 % en poids d'au moins un tensioactif anionique de formule (I) dans laquelle R1 représente un radical alkyle linéaire ou ramifié, saturé ou insaturé, comprenant 6 à 30 atomes de carbone, au moins un des radicaux R2 à R5 représente un radical alkyle C1-C4 et les autres radicaux représentent indépendamment les uns des autres un atome d'hydrogène ou un radical alkyle C1-C4, et M+ représente un cation d'ammonium, d'alcanolammonium ou de métal, b) 2 à 10 % en poids d'au moins un tensioactif amphotère et/ou zwittérionique et c) 0,5 à 10 % en poids d'au moins un tensioactif non ionique et/ou d'au moins un émulsifiant non ionique choisi dans au moins un des groupes suivants : alkyl(oligo)glycosides, aminoxydes et/ou esters d'acide glycérinemonocarboxylique et/ou di-(C6-C24)carboxylique, les quantités indiquées se rapportant au poids total du nettoyant.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)