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1. (WO2013056981) MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE METHOD AND ILLUMINATION DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/056981    International Application No.:    PCT/EP2012/069621
Publication Date: 25.04.2013 International Filing Date: 04.10.2012
IPC:
G02F 1/01 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Straße 2 73447 Oberkochen (DE) (For All Designated States Except US).
SÄNGER, Ingo [DE/DE]; (DE) (US only).
SINGER, Wolfgang [DE/DE]; (DE) (US only).
GÖHNERMEIER, Aksel [DE/DE]; (DE) (US only).
SCHLESENER, Frank [DE/DE]; (DE) (US only)
Inventors: SÄNGER, Ingo; (DE).
SINGER, Wolfgang; (DE).
GÖHNERMEIER, Aksel; (DE).
SCHLESENER, Frank; (DE)
Agent: FRANK, Hartmut; Bonsmann . Bonsmann . Frank Reichspräsidentenstrasse 21-25 45470 Mülheim a.d. Ruhr (DE)
Priority Data:
10 2011 084 637.9 17.10.2011 DE
61/547,858 17.10.2011 US
Title (EN) MICROLITHOGRAPHIC EXPOSURE METHOD AND ILLUMINATION DEVICE
(FR) PROCÉDÉ D'EXPOSITION MICROLITHOGRAPHIQUE ET DISPOSITIF D'ÉCLAIRAGE
Abstract: front page image
(EN)The invention relates to a microlithographic exposure method and to an illumination device. In a microlithographic exposure method an illumination device illuminates an object plane of a projection lens, wherein the object plane is imaged into an image plane of the projection lens (20) by means of the projection lens (20), wherein the illumination device (10) comprises at least one retardation element by means of which, for light impinging on the retardation element, a temporally varying retardation dependent on the location of the impingement can be generated, wherein at least two light rays are directed through different regions of the retardation element, which differ from one another with regard to the retardation respectively generated by the retardation element, and wherein the retardation element is a photoelastic modulator (100).
(FR)La présente invention a trait à un procédé d'exposition microlithographique ainsi qu'à un dispositif d'éclairage. Dans un procédé d'exposition microlithographique, un dispositif d'éclairage éclaire un plan objet d'un objectif de projection, le plan objet étant imagé dans un plan image de l'objectif de projection (20) à l'aide dudit objectif de projection (20). Le dispositif d'éclairage (10) comprend au moins un élément de retard qui, pour ce qui est de la lumière l'atteignant, permet de générer un retard variant dans le temps en fonction de l'emplacement de l'impact. Au moins deux rayons lumineux, qui diffèrent l'un de l'autre en ce qui concerne le retard généré respectivement par l'élément de retard, sont dirigés dans différentes régions de cet élément de retard, ledit élément de retard étant un modulateur photoélastique (100).
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)