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1. (WO2013056941) LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/056941    International Application No.:    PCT/EP2012/068696
Publication Date: 25.04.2013 International Filing Date: 21.09.2012
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01)
Applicants: ASML Netherlands B.V. [NL/NL]; De Run 6501 NL-5504 DR Veldhoven (NL) (For All Designated States Except US)
Inventors: GIJSBERTSEN, Arjan; (NL).
GERAETS, Bert; (BE).
DAVYDOVA, Natalia; (NL).
SEGERS, Bart; (BE)
Agent: SIEM, Max; De Run 6501 NL-5504 DR Veldhoven (NL)
Priority Data:
61/549,548 20.10.2011 US
Title (EN) LITHOGRAPHIC APPARATUS AND METHOD
(FR) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ ASSOCIÉ
Abstract: front page image
(EN)A lithographic apparatus comprising a support structure constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting an EUV radiation beam with a grating in its cross-section to form a patterned EUV radiation beam, and a projection system configured to project the patterned EUV radiation beam onto a target portion of the substrate, wherein the support structure is provided with a grating comprising a series of first reflective portions which alternates with a series of second reflective portions, the second reflective portions having a reflectivity which is less than the reflectivity of at least part of the first reflective portions and which is greater than zero.
(FR)La présente invention porte sur un appareil lithographique comprenant une structure de support construite pour supporter un dispositif de formation de motif, le dispositif de formation de motif étant apte à communiquer un faisceau de rayonnement d'ultraviolet extrême (EUV) ayant un réseau dans sa section transversale pour former un faisceau de rayonnement EUV à motifs, et un système de projection configuré pour projeter le faisceau de rayonnement EUV à motifs sur une partie cible du substrat, la structure de support comportant un réseau comprenant une série de premières parties réfléchissantes qui alternent avec une série de secondes parties réfléchissantes, les secondes parties réfléchissantes ayant une réflectivité qui est inférieure à la réflectivité d'au moins une partie des premières parties réfléchissantes et qui est supérieure à zéro.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)