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1. (WO2013056238) PROGRAMMABLE PHOTOLITHOGRAPHY
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/056238    International Application No.:    PCT/US2012/060270
Publication Date: 18.04.2013 International Filing Date: 15.10.2012
IPC:
G03F 7/26 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: UNIVERSITY OF UTAH RESEARCH FOUNDATION [US/US]; 615 Arapeen Drive, Suite 310 Salt Lake City, UT 84108 (US)
Inventors: MENON, Rajesh; (US)
Agent: ERICKSEN, Erik, S.; Thorpe North & Western, LLP PO Box 1219 Sandy, UT 84091-1219 (US)
Priority Data:
61/627,603 14.10.2011 US
Title (EN) PROGRAMMABLE PHOTOLITHOGRAPHY
(FR) PHOTOLITHOGRAPHIE PROGRAMMABLE
Abstract: front page image
(EN)A method of programmable photolithography includes positioning (910) a programmable photomask in proximity to a photoresist layer on a sample. The programmable photomask is illuminated (920) with a plurality of different wavelengths of light simultaneously to expose the photoresist layer in a predetermined pattern. The programmable photomask is separated (930) from the photoresist layer and the photoresist layer is developed (940) to create the predetermined pattern in the photoresist layer.
(FR)La présente invention porte sur un procédé de photolithographie programmable qui comprend le positionnement (910) d'un photomasque programmable à proximité d'une couche de résine photosensible sur un échantillon. Le photomasque programmable est éclairé (920) avec une pluralité de longueurs d'onde différentes de lumière de manière simultanée pour exposer la couche de résine photosensible dans un motif prédéterminé. Le photomasque programmable est séparé (930) de la couche de résine photosensible et la couche de résine photosensible est développée (940) pour créer le motif prédéterminé dans la couche de résine photosensible.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)