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1. (WO2013054935) IMPLANT STRUCTURE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/054935    International Application No.:    PCT/JP2012/076622
Publication Date: 18.04.2013 International Filing Date: 15.10.2012
IPC:
A61C 8/00 (2006.01), A61K 6/00 (2006.01)
Applicants: MATSUMOTO DENTAL UNIVERSITY [JP/JP]; 1780, Hirooka Gobara, Shiojiri-shi, Nagano 3990781 (JP).
HI-LEX CORPORATION [JP/JP]; 12-28, Sakaemachi 1-chome, Takarazuka-shi, Hyogo 6650845 (JP)
Inventors: YAGAMI, Kimitoshi; (JP).
SEKI, Yasuo; (JP).
YOSHINO, Kazutaka; (JP)
Agent: KAWAMURA, Kiyoshi; NS Building, 2-22, Tanimachi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5400012 (JP)
Priority Data:
2011-226008 13.10.2011 JP
Title (EN) IMPLANT STRUCTURE
(FR) STRUCTURE D'IMPLANT
(JA) インプラント構造体
Abstract: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide an implant structure which is unlikely to cause the introduction of substances that encourage bacteria growth. The implant structure has a tip section (21) and a base section (22), and is provided with an artificial tooth root (4) that includes: an artificial tooth root body (2) having screw threads (T) formed at least on the tip section (21) side thereof; and an inducing part (3) for inducing soft tissue, and positioned around the outer periphery of the artificial tooth root body (2) in the base section (22). The implant structure is further provided with an abutment (5) which is attached to the artificial tooth root (4), and which is equipped, on the abutment base end (5P) side thereof, with a covering section (51) for covering the entire surface of the inducing part (3) on the base-section side thereof. The implant structure is characterized in that the abutment (5) is provided with a stepped section (52) along the outer periphery on the tip (5D) side of the abutment (5) in relation to the covering section (51).
(FR)La présente invention concerne une structure d'implant qui n'est pas susceptible d'entraîner l'introduction de substances qui encouragent la croissance de bactéries. La structure d'implant présente une section de pointe (21) et une section de base (22), ainsi qu'une racine de dent artificielle (4) qui comprend : un corps de racine de dent artificielle (2) ayant des filetages (T) formés au moins sur le côté section de pointe (21) de celui-ci ; une partie inductrice (3), pour induire un tissu mou, positionnée autour de la périphérie externe du corps de racine de dent artificielle (2) dans la section de base (22). La structure d'implant est pourvu en outre d'une butée (5) qui est fixée à la racine de dent artificielle (4) et qui est équipée, sur le côté extrémité de base de butée (5P) de celle-ci, d'une section de couverture (51) pour recouvrir la surface entière de la partie inductrice (3) sur le côté section de base de celle-ci. La structure d'implant est caractérisée en ce que la butée (5) est pourvue d'une section en gradin (52) le long de la périphérie externe sur le côté pointe (5D) de la butée (5) par rapport à la section de couverture (51).
(JA) 細菌繁殖を助長する物質が誘導され難いインプラント構造体を提供することを目的とする。先端部21及び基端部22を有し、少なくとも先端部21側にネジTが形成された人工歯根本体2と、人工歯根本体2の基端部22における外周に設けられ、軟組織を誘導する誘導部3とを含む人工歯根4と、人工歯根4に取り付けられ、誘導部3の基端部22側の全面を覆う覆設部51を支台基端5P側に有する支台5とを備え、支台5は、覆設部51より支台5の先端5D側に、外周に沿って、段差部52が設けられたことを特徴とする。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)