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1. (WO2013054771) SILANE COMPOSITION AND CURED FILM THEREOF, AND METHOD FOR FORMING NEGATIVE RESIST PATTERN USING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/054771    International Application No.:    PCT/JP2012/076021
Publication Date: 18.04.2013 International Filing Date: 05.10.2012
IPC:
C08L 83/04 (2006.01), C08G 77/06 (2006.01), C08L 83/12 (2006.01), G03F 7/075 (2006.01)
Applicants: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5253, Oaza Okiube, Ube-shi, Yamaguchi 7550001 (JP)
Inventors: OGAWA, Tsuyoshi; (JP).
NAKATSUJI, Junya; (JP).
YAMANAKA, Kazuhiro; (JP)
Agent: KOBAYASHI, Hiromichi; c/o Shiga Patent Office, Ekisaikai Bldg., 1-29, Akashi-cho, Chuo-ku, Tokyo 1040044 (JP)
Priority Data:
2011-224930 12.10.2011 JP
2012-222769 05.10.2012 JP
Title (EN) SILANE COMPOSITION AND CURED FILM THEREOF, AND METHOD FOR FORMING NEGATIVE RESIST PATTERN USING SAME
(FR) COMPOSITION DE SILANE ET FILM DURCI DE CELLE-CI ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF DE RÉSIST NÉGATIF L'UTILISANT
(JA) シラン系組成物およびその硬化膜、並びにそれを用いたネガ型レジストパターンの形成方法
Abstract: front page image
(EN)[Problem] To provide storage stability that has been heretofore difficult in a condensate obtained by the hydrolysis and condensation of alkoxysilanes using prior methods and, when the condensate is heated and baked into a film, to obtain a hard film with a graphite hardness of at least 5H, and to prevent the generation of cracks in a film with a thickness of at least 3.0 µm. [Solution] An alkoxysilane condensate obtained by the condensation of alkoxysilane A represented by general formula (1): (CH3)Si(OR1)3, alkoxysilane B represented by general formula (2): (Ph)Si(OR1)3, and alkoxysilane C represented by general formula (3): (CH3)2Si(OR1)2 at an A:B:C molar ratio within the range of 30-70:10-50:20-60; and a composition comprising a polyether-modified polydimethylsiloxane.
(FR)L'invention a pour but de proposer une stabilité au stockage qui a été jusqu'ici difficile dans un condensat obtenu par l'hydrolyse et la condensation d'alcoxysilanes à l'aide des procédés antérieurs et, lorsque le condensat est chauffé et cuit en un film, d'obtenir un film dur ayant une dureté de graphite d'au moins 5H et d'empêcher la génération de fissurations dans un film ayant une épaisseur d'au moins 3,0 µm. A cet effet, l'invention propose un condensat d'alcoxysilanes obtenu par la condensation d'un alcoxysilane A représenté par la formule générale (1) : (CH3)Si(OR1)3, d'un alcoxysilane B représenté par la formule générale (2) : (Ph)Si(OR1)3 et d'un alcoxysilane C représenté par la formule générale (3) : (CH3)2Si(OR1)2 à un rapport molaire A:B:C se situant à l'intérieur de la plage de 30-70:10-50:20-60; et une composition comprenant un polydiméthylsiloxane modifié par polyéther.
(JA) 【課題】アルコキシシランの加水分解および縮合反応によって得られる縮合物において、従来の手法によるアルコキシシランの加水分解および縮合によって得られる縮合物では困難であった保存安定性および縮合物を加熱焼成し膜とした際、鉛筆硬度5H以上の硬質な膜を得、膜厚、3.0μm以上の膜にクラックを発生させないことの問題を解決する。 【解決手段】一般式(1):(CH3)Si(OR13で表されるアルコキシシランAと、一般式(2):(Ph)Si(OR13で表されるアルコキシシランBと、一般式(3):(CH32Si(OR12で表されるアルコキシシランCとをモル比で表して、アルコキシシランA:アルコキシシランB:アルコキシシランC=30~70:10~50:20~60の範囲で縮合させたアルコキシシラン縮合物、およびポリエーテル変性ポリジメチルシロキサンを含む組成物。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)