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1. (WO2013054539) METHOD FOR INACTIVATION BY ELECTRON BEAM IRRADIATION AND TREATMENT APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/054539    International Application No.:    PCT/JP2012/006561
Publication Date: 18.04.2013 International Filing Date: 12.10.2012
IPC:
A61L 2/20 (2006.01), B65B 55/08 (2006.01)
Applicants: IWASAKI ELECTRIC CO., LTD. [JP/JP]; 1-4-16, Nihonbashi-bakurocho, Chuo-ku, Tokyo 1030002 (JP)
Inventors: KASAHARA, Tetsuya; (JP).
INOI, Kazuyoshi; (JP).
TERADA, Hiroichi; (JP).
HADA, Hiroaki; (JP).
KINOSHITA, Shinobu; (JP).
MATSUMOTO, Hiroyuki; (JP).
YOSHINO, Kiyoshi; (JP).
HOSHINO, Sayo; (JP).
IDE, Takashi; (JP)
Agent: OKABE, Yuzuru; No.602, Fuji Bldg., 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
Priority Data:
2011-225537 13.10.2011 JP
Title (EN) METHOD FOR INACTIVATION BY ELECTRON BEAM IRRADIATION AND TREATMENT APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ D'INACTIVATION AU MOYEN D'UNE EXPOSITION À DES FAISCEAUX D'ÉLECTRONS ET APPAREIL DE TRAITEMENT
(JA) 電子線照射による不活化方法および処理装置
Abstract: front page image
(EN)The present invention provides a method for inactivation by electron beam irradiation, and a treatment apparatus, whereby irrespective of the shape of the object to be treated and/or the retention form of the object to be treated, microorganisms can be inactivated uniformly with a simple configuration, and also whereby damage to the object to be treated caused by electron beams can be reduced in spite of the use of electron beams. A treatment apparatus for inactivating microorganisms as in one embodiment of the present invention is provided with: a treatment chamber; an electron beam irradiation device for irradiating the inside of the treatment chamber with electron beams; a retaining unit for retaining the object to be treated, the retaining unit being furnished within the treatment chamber; and a gas nozzle configured so as to supply a predetermined gas that has been excited by electron beams to the object to be treated retained by the retaining unit.
(FR)La présente invention se rapporte à un procédé d'inactivation au moyen d'une exposition à des faisceaux d'électrons et à un appareil de traitement, de telle sorte que, sans tenir compte de la forme de l'objet qui doit être traité et/ou de la forme de rétention de l'objet qui doit être traité, des microorganismes puissent être inactivés de manière uniforme avec une configuration simple et également de telle sorte que les dégâts provoqués par des faisceaux d'électrons à l'objet qui doit être traité, puissent être réduits malgré l'utilisation des faisceaux d'électrons. Un appareil de traitement permettant l'inactivation des microorganismes selon un mode de réalisation de la présente invention est pourvu : d'une chambre de traitement ; d'un dispositif d'émission de faisceaux d'électrons destiné à exposer l'intérieur de la chambre de traitement à des faisceaux d'électrons ; d'une unité de retenue destinée à retenir l'objet qui doit être traité, l'unité de retenue étant agencée dans la chambre de traitement ; et d'une buse à gaz configurée de sorte à fournir un gaz prédéterminé qui a été excité par des faisceaux d'électrons, à l'objet qui doit être traité et qui est retenu par l'unité de retenue.
(JA) 本発明は、被処理物の形状および/または被処理物の保持形態によらず、簡便な構成で均一に微生物の不活化処理を行うことができ、電子線を用いているにも関わらず被処理物への電子線に起因したダメージを低減可能な電子線照射による不活化方法および処理装置を提供する。本発明の一実施形態に係る、微生物を不活化させる処理装置は、処理室と、処理室内に電子線を照射する電子線照射装置と、処理室内に設けられ、被処理物を保持するための保持部と、保持部に保持された被処理物に対して、電子線によって励起された所定のガスを供給するように構成されたガスノズルとを備える。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)