WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2013052521) SILICA PARTICLE MANUFACTURING PROCESS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/052521    International Application No.:    PCT/US2012/058517
Publication Date: 11.04.2013 International Filing Date: 03.10.2012
IPC:
C01B 33/14 (2006.01), C01B 33/12 (2006.01), C07F 7/02 (2006.01)
Applicants: NALCO COMPANY [US/US]; 1601 W Diehl Road Naperville, Illinois 60563-1198 (US) (For All Designated States Except US).
ERGANG, Nicholas, S [US/US]; (US) (US only).
KEISER, Bruce, A [US/US]; (US) (US only).
MIMNA, Richard [US/US]; (US) (US only).
SHOWALTER, Brett [US/US]; (US) (US only).
SARATOVSKY, Ian [US/US]; (US) (US only).
CHEN, Hung-Ting [CN/US]; (US) (US only)
Inventors: ERGANG, Nicholas, S; (US).
KEISER, Bruce, A; (US).
MIMNA, Richard; (US).
SHOWALTER, Brett; (US).
SARATOVSKY, Ian; (US).
CHEN, Hung-Ting; (US)
Agent: YONTER, Edward O; 1601 W Diehl Road Naperville, Illinois 60563 (US)
Priority Data:
13/269,159 07.10.2011 US
Title (EN) SILICA PARTICLE MANUFACTURING PROCESS
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PARTICULES DE SILICE
Abstract: front page image
(EN)Methods of forming a silica-containing products are disclosed. One method comprises: (a) providing a silica containing precursor (SCP) contained in solution that has a pH less than or equal to a pH of 7; (b) optionally doping the SCP with one or more metal species, wherein said doping occurs when the solution has a pH less than or equal to a pH of 7; (c) adjusting the pH of the solution to greater than 7; (d) adding an effective amount of salt to the solution so that the conductivity of the solution is greater than or equal to 4 mS, wherein said addition occurs prior to, simultaneous with, or after the pH adjustment in step 1c; (e) optionally filtering and drying the SCP; and (f) optionally reacting the dried product from step e with a functional group and optionally wherein the resultant functionalized dried product is at least one of the following: a functionalized metal oxide-doped or metal sulfide-doped silica product. Another method comprises: (a) providing a silica containing precursor (SCP) contained in solution that has a pH greater than 7; (b) adjusting the pH of the solution to less than or equal to 7; (c) optionally doping the SCP with one or more metal species, wherein said doping occurs when the solution has a pH less than or equal to a pH of 7; (d) adjusting the pH of the solution to greater than 7; (e) adding an effective amount of salt to the solution so that the conductivity of the solution is greater than or equal to 4 mS, wherein said addition occurs prior to, simultaneous with, or after the pH adjustment in step 2d; (f) optionally filtering and drying the SCP; and (g) optionally reacting the dried product from step f with a functional group and optionally wherein the resultant functionalized dried product is at least one of the following: a functionalized metal oxide-doped or metal sulfide-doped silica-containing product. The SCP is then added to a hygroscopic solid such that the resulting product comprises a metal oxide-doped or metal sulfide-doped silica-containing product deposited on a substrate selected from hydrated alkaline earth oxide, lanthanide oxide, and combinations thereof.
(FR)L'invention concerne des procédés de formation de produits contenant de la silice. Un procédé comprend : (a) l'obtention d'un précurseur contenant de la silice (PCS) contenu dans une solution qui a un pH inférieur ou égal à 7 ; (b) éventuellement, le dopage du PCS avec une ou plusieurs espèces métalliques, ledit dopage ayant lieu lorsque la solution a un pH inférieur ou égal à 7 ; (c) l'ajustement du pH de la solution à une valeur supérieure à 7 ; (d) l'addition d'une quantité efficace de sel à la solution pour que la conductivité de la solution soit supérieure ou égale à 4 mS, l'addition ayant lieu avant l'ajustement du pH dans l'étape 1c, en même temps ou après ; (e) éventuellement, la filtration et le séchage du PCS ; et (f) éventuellement, la réaction du produit séché de l'étape e avec un groupe fonctionnel, le produit séché fonctionnalisé obtenu étant éventuellement au moins l'un des suivants : un produit de silice dopé avec un oxyde de métal ou dopé avec un sulfure et fonctionnalisé. Un autre procédé comprend : (a) l'obtention d'un précurseur contenant de la silice (PCS) contenu dans une solution qui a un pH supérieur à 7 ; (b) l'ajustement du pH de la solution à une valeur inférieure ou égale 7 ; (c) éventuellement, le dopage du PCS avec une ou plusieurs espèces métalliques, ledit dopage ayant lieu lorsque la solution a un pH inférieur ou égal à 7 ; (d) l'ajustement du pH de la solution à une valeur supérieure à 7 ; (e) l'addition d'une quantité efficace de sel à la solution pour que la conductivité de la solution soit supérieure ou égale à 4 mS, l'addition ayant lieu avant l'ajustement du pH dans l'étape 2d, en même temps ou après ; (f) éventuellement la filtration et le séchage du PCS ; et (g) éventuellement, la réaction du produit séché de l'étape f avec un groupe fonctionnel, le produit séché fonctionnalisé obtenu étant éventuellement l'un des suivants : un produit de silice dopé avec un oxyde de métal ou dopé avec un sulfure et fonctionnalisé. Le PCS est ensuite ajouté à un solide hygroscopique de telle sorte que le produit obtenu comprenne un produit de silice dopé avec un oxyde de métal ou dopé avec un sulfure et fonctionnalisé déposé sur un substrat choisi parmi un oxyde alcalino-terreux hydraté, un oxyde de lanthanide et leurs combinaisons.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)