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1. (WO2013051516) METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN, CONDUCTIVE PATTERN SUBSTRATE, AND TOUCH PANEL SENSOR
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/051516    International Application No.:    PCT/JP2012/075421
Publication Date: 11.04.2013 International Filing Date: 01.10.2012
IPC:
G03F 7/38 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/028 (2006.01), G03F 7/11 (2006.01)
Applicants: HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP/JP]; 9-2, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1006606 (JP)
Inventors: YAMAZAKI Hiroshi; (JP).
IGARASHI Yoshimi; (JP)
Agent: HASEGAWA Yoshiki; SOEI PATENT AND LAW FIRM, Marunouchi MY PLAZA (Meiji Yasuda Life Bldg.) 9th fl., 1-1, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
Priority Data:
2011-219176 03.10.2011 JP
Title (EN) METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN, CONDUCTIVE PATTERN SUBSTRATE, AND TOUCH PANEL SENSOR
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF CONDUCTEUR, SUBSTRAT À MOTIF CONDUCTEUR ET CAPTEUR D'ÉCRAN TACTILE
(JA) 導電パターンの形成方法、導電パターン基板及びタッチパネルセンサ
Abstract: front page image
(EN)This method for forming a conductive pattern comprises: a first light exposure step wherein a photosensitive layer, which contains a photosensitive resin layer provided on a substrate and a conductive film that is arranged on a surface of the photosensitive layer, said surface being on the reverse side of the substrate-side surface, is irradiated with an active light ray in a pattern; a second light exposure step wherein a part or all of the unexposed area of the photosensitive layer, said area having not been exposed in the first light exposure step, is irradiated with an active light ray in the presence of oxygen; and a development step wherein a conductive pattern is formed by developing the photosensitive layer after the second light exposure step.
(FR)La présente invention porte sur un procédé de formation de motif conducteur qui comprend : une première étape d'exposition à la lumière dans laquelle une couche photosensible, qui contient une couche de résine photosensible disposée sur un substrat et un film conducteur qui est agencé sur une surface de la couche photosensible, ladite surface étant sur le côté inverse de la surface côté substrat, est irradiée par un rayon de lumière active dans un motif ; une seconde étape d'exposition à la lumière dans laquelle une partie ou toute la zone non exposée de la couche photosensible, ladite zone n'ayant pas été exposée dans la première étape d'exposition à la lumière, est irradiée par un rayon de lumière active en présence d'oxygène ; et une étape de développement dans laquelle un motif conducteur est formé par développement de la couche photosensible après la seconde étape d'exposition à la lumière.
(JA) 本発明の導電パターンの形成方法は、基板上に設けられた感光性樹脂層と、感光性樹脂層の基板とは反対側の面に設けられた導電膜とを含む感光層に、パターン状に活性光線を照射する第一の露光工程と、酸素存在下で、感光層の少なくとも第一の露光工程での未露光部の一部又は全部に活性光線を照射する第二の露光工程と、第二の露光工程の後に感光層を現像することにより、導電パターンを形成する現像工程と、を備える。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)