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1. (WO2013050673) DEVICE AND METHOD FOR INSPECTING SEMI-CONDUCTOR MATERIALS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/050673    International Application No.:    PCT/FR2012/000395
Publication Date: 11.04.2013 International Filing Date: 04.10.2012
IPC:
H01L 21/66 (2006.01), G01N 21/95 (2006.01), G06N 7/00 (2006.01)
Applicants: ALTATECH SEMICONDUCTOR [FR/FR]; 611, rue Aristide Bergès 38330 Montbonnot-Saint-Martin (FR)
Inventors: GASTALDO, Philippe; (FR).
LEGUY, Viviane; (FR)
Agent: REGIMBEAU; 20, rue de Chazelles, F-75847 Paris Cedex 17 (FR)
Priority Data:
11/03073 07.10.2011 FR
Title (EN) DEVICE AND METHOD FOR INSPECTING SEMI-CONDUCTOR MATERIALS
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ POUR L'INSPECTION DE PRODUITS SEMI-CONDUCTEURS
Abstract: front page image
(EN)A nanotopographic measuring device comprises an input arranged to receive sets of measurement data relating to a semi-conductor wafer (20) and memory organised into first and second working tables and a results table. A calculation function is capable of establishing a current surface equation from localised gradient values. The equation is established in such a way as to generally minimise a deviation amount between the gradient values calculated from the current surface equation and the localised gradient values. A reconstruction function calculates localised gradient values from a set of measurement data corresponding to an area of the wafer, and completes the working tables with these values. It repeatedly calls the calculation function, each time with a part of the values of the first working table and the second working table corresponding to a portion of the area of the wafer to determine, each time, a current surface equation. It completes the results table with the localised height data corresponding to this area, in relation to the reference plane of the wafer, said localised height data being calculated from at least certain of the current surface equations.
(FR)Un dispositif de mesure nanotopographique comprend une entrée agencée pour recevoir des jeux de données de mesure relatives à une plaquette semi-conductrice (20) et de la mémoire organisée en un premier et un second tableau de travail et un tableau-résultat. Une fonction de calcul est capable d'établir une équation courante de surface à partir de valeurs localisées de gradient. L'équation est établie de manière à minimiser globalement une grandeur d'écart entre les valeurs de gradient calculées à partir de l'équation courante de surface et les valeurs localisées de gradient. Une fonction de reconstruction calcule, à partir d'un jeu de données de mesure correspondant à une zone de la plaquette, des valeurs localisées de gradient et remplit les tableaux de travail avec ces valeurs. Elle appelle répétitivement la fonction de calcul avec à chaque fois, une partie des valeurs du premier tableau de travail et du second tableau de travail correspondant à une portion de la zone de la plaquette pour déterminer à chaque fois une équation courante de surface. Elle remplit le tableau résultat avec des données localisées de hauteur correspondant à cette zone, par rapport au plan de référence de la plaquette, ces données localisées de hauteur étant calculées à partir de certaines au moins des équations courantes de surface.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
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Publication Language: French (FR)
Filing Language: French (FR)