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1. (WO2013049921) CHIRAL NEMATIC NANOCRYSTALLINE METAL OXIDES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/049921    International Application No.:    PCT/CA2012/000919
Publication Date: 11.04.2013 International Filing Date: 03.10.2012
Chapter 2 Demand Filed:    01.08.2013    
IPC:
C01G 23/04 (2006.01), B01J 21/06 (2006.01), C01B 13/14 (2006.01), C01B 33/12 (2006.01), C01G 19/02 (2006.01), C01G 31/02 (2006.01), C01G 35/00 (2006.01), C01G 49/02 (2006.01)
Applicants: FPINNOVATIONS [CA/CA]; 570 boul. St-Jean Pointe-Claire, Québec H9R 3J9 (CA) (For All Designated States Except US).
MACLACHLAN, Mark, John [CA/CA]; (CA) (US only).
SHOPSOWITZ, Kevin, Eric [CA/CA]; (CA) (US only).
HAMAD, Wadood, Yasser [CA/CA]; (CA) (US only)
Inventors: MACLACHLAN, Mark, John; (CA).
SHOPSOWITZ, Kevin, Eric; (CA).
HAMAD, Wadood, Yasser; (CA)
Agent: NORTON ROSE FULBRIGHT CANADA LLP/S.E.N.C.R.L., S.R.L.; Suite 2500 1 Place Ville Marie Montréal, Québec H3B 1R1 (CA)
Priority Data:
61/543,955 06.10.2011 US
Title (EN) CHIRAL NEMATIC NANOCRYSTALLINE METAL OXIDES
(FR) OXYDES MÉTALLIQUES NANOCRISTALLINS À STRUCTURE NÉMATIQUE CHIRALE
Abstract: front page image
(EN)The present invention describes a composition and a method for producing mesoporous metal oxide materials with a chiral organization. In the method, a polymerizable metal oxide precursor is condensed inside the pores of chiral nematic mesoporous silica by the so-called "hard templating" method. As a specific example, mesoporous titanium dioxide has been formed inside of the chiral nematic silica films templated by nanocrystalline cellulose (NCC). After dissolving the silica in concentrated aqueous base, the resulting product is a mesoporous titania with a high surface area. The material may be obtained as an iridescent film. Through using this hard templating method, other metal oxide structures (e.g.. tin dioxide, iron oxide, niobium oxide, zirconium oxide, tantalum oxide, vanadium oxide) with chiral nematic organization may be prepared. These materials with high surface area and chiral nematic structures may be useful in photonic applications, enantioselective catalysis, photocatalysis. photovoltaics. UV filters, batteries, and sensors.
(FR)La présente invention concerne une composition et un procédé de production de matériaux mésoporeux d'oxyde métallique présentant une organisation chirale. Dans le procédé, un précurseur d'oxyde métallique polymérisable est condensé à l'intérieur des pores de silice mésoporeuse à structure nématique chirale par le procédé dit « hard templating ». Comme exemple spécifique, du dioxyde de titane mésoporeux a été formé à l'intérieur de films de silice à structure nématique chirale à matrice de cellulose nanocristalline (NCC). Après dissolution de la silice dans une base aqueuse concentrée, le produit obtenu est un dioxyde de titane mésoporeux doté d'une grande superficie. Le matériau peut être obtenu sous la forme d'un film irisé. Grâce à ce procédé dit « hard templating », d'autres structures d'oxyde métallique (par ex. le dioxyde d'étain, l'oxyde de fer, l'anhydride niobique, la zircone, l'oxyde de tantale, l'oxyde de vanadium) dotées d'une organisation nématique chirale peuvent être préparées. Ces matériaux dotés d'une grande superficie et de structures nématiques chirales peuvent être utiles dans des applications photoniques, la catalyse énantiosélective, la photocatalyse, le photovoltaïque, les filtres anti-UV, les batteries et les capteurs.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)