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1. (WO2013049589) ELECTROSTATIC CHUCK WITH TEMPERATURE CONTROL
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/049589    International Application No.:    PCT/US2012/057949
Publication Date: 04.04.2013 International Filing Date: 28.09.2012
IPC:
H01L 21/683 (2006.01), B23Q 3/15 (2006.01), H02N 13/00 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventors: PARKHE, Vijay D.; (US).
SANSONI, Steven V.; (US).
TSAI, Cheng-Hsiung Matthew; (US)
Agent: LINARDAKIS, Leonard; Moser Taboada 1030 Broad Street Suite 203 Shrewsbury, New Jersey 07702 (US)
Priority Data:
61/542,068 30.09.2011 US
61/542,746 03.10.2011 US
13/630,196 28.09.2012 US
Title (EN) ELECTROSTATIC CHUCK WITH TEMPERATURE CONTROL
(FR) MANDRIN ÉLECTROSTATIQUE À RÉGULATION DE TEMPÉRATURE
Abstract: front page image
(EN)Embodiments of an apparatus for controlling a temperature of an electrostatic chuck in a process chamber are provided herein. In some embodiments, the apparatus includes an electrostatic chuck disposed in a process chamber, the electrostatic chuck including a ceramic plate having a substrate supporting surface, and a cooling assembly including a plurality of cooling plates disposed below the electrostatic chuck to adjust the cooling capacity of the electrostatic chuck. In some embodiments, the plurality of cooling plates includes an inner cooling plate configured to control a temperature of a center portion of the electrostatic chuck, and an outer cooling plate configured to control a temperature of an outer portion of the electrostatic chuck. In some embodiments, the plurality of cooling plates includes an upper cooling plate that contacts a bottom surface of the electrostatic chuck, and a lower cooling plate which contacts a bottom surface of the upper cooling plate.
(FR)Selon des modes de réalisation, l'invention porte sur un appareil qui permet de réguler la température d'un mandrin électrostatique dans une chambre de traitement. Selon certains modes de réalisation, l'appareil comprend un mandrin électrostatique agencé dans une chambre de traitement, le mandrin électrostatique comprenant une plaque en céramique, qui présente une surface de support de substrat, et un ensemble de refroidissement comprenant une pluralité de plaques de refroidissement agencées au-dessous du mandrin électrostatique afin d'ajuster la capacité de refroidissement du mandrin électrostatique. Selon certains modes de réalisation, la pluralité de plaques de refroidissement comprend une plaque de refroidissement intérieure configurée pour réguler la température d'une partie centrale du mandrin électrostatique, et une plaque de refroidissement extérieure configurée pour réguler la température d'une partie extérieure du mandrin électrostatique. Selon certains modes de réalisation, la pluralité de plaques de refroidissement comprend une plaque de refroidissement supérieure qui est en contact avec une surface inférieure du mandrin électrostatique, et une plaque de refroidissement inférieure qui est en contact avec une surface inférieure de la plaque de refroidissement supérieure.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)