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1. (WO2013049106) REDUCTION OF IMPLANT INFECTION VIA TUNABLE STIMULATION OF LOCALIZED ADAPTIVE IMMUNE RESPONSE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/049106    International Application No.:    PCT/US2012/057194
Publication Date: 04.04.2013 International Filing Date: 26.09.2012
IPC:
A61K 9/16 (2006.01), A61K 9/51 (2006.01)
Applicants: WUSTENBERG, William [US/US]; (US).
FINCH, Michael [US/US]; (US).
MUNSHI, Cyrus B. [US/US]; (US)
Inventors: WUSTENBERG, William; (US).
FINCH, Michael; (US).
MUNSHI, Cyrus B.; (US)
Agent: ARORA, Suneel, USPTO Reg. No. 42,267; Schwegman, Lundberg & Woessner, P.A. P.O. Box 2938 Minneapolis, Minnesota 55402 (US)
Priority Data:
61/539,282 26.09.2011 US
Title (EN) REDUCTION OF IMPLANT INFECTION VIA TUNABLE STIMULATION OF LOCALIZED ADAPTIVE IMMUNE RESPONSE
(FR) RÉDUCTION D'INFECTION D'IMPLANT PAR STIMULATION AJUSTABLE DE RÉPONSE IMMUNITAIRE ADAPTATIVE LOCALISÉE
Abstract: front page image
(EN)Compositions, implantation devices and methods for stimulating an immune response to infection are discussed. In some examples, the compositions, implantation devices or methods of regulating the amplification of an adaptive immune response to infection involves use of one or more particles locally at a surgical or implant site to control bacterial infections without detrimental systemic side-effects. In some examples, the particles can be coated or layered onto the surface of an implantable device or material. In other examples, the particles can be injected into the site of implantation.
(FR)La présente invention concerne des compositions, des dispositifs d'implantation et des procédés pour stimuler une réponse immunitaire à une infection. Dans des exemples, les compositions, dispositifs d'implantation ou procédés de régulation de l'amplification d'une réponse immunitaire adaptative à une infection mettent en œuvre l'utilisation d'une ou plusieurs particules localement à un site chirurgical ou d'implant pour lutter contre les infections bactériennes sans effets secondaires systémiques délétères. Dans certains exemples, les particules peuvent être enrobées ou couchées sur la surface d'un dispositif ou matériau implantable. Dans d'autres exemples, les particules peuvent être injectées dans le site d'implantation.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)