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1. (WO2013047905) NANOIMPRINTING METHOD AND RESIST COMPOSITION EMPLOYED IN THE NANOIMPRINTING METHOD
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/047905    International Application No.:    PCT/JP2012/075872
Publication Date: 04.04.2013 International Filing Date: 28.09.2012
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), C08F 2/48 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventors: OMATSU, Tadashi; (JP).
NAKAMURA, Kazuharu; (JP).
WAKAMATSU, Satoshi; (JP)
Agent: YANAGIDA, Masashi; YANAGIDA & Associates 7F, Shin-Yokohama KS Bldg. 3-18-3, Shin-Yokohama Kohoku-ku, Yokohama-shi Kanagawa 2220033 (JP)
Priority Data:
2011-217552 30.09.2011 JP
Title (EN) NANOIMPRINTING METHOD AND RESIST COMPOSITION EMPLOYED IN THE NANOIMPRINTING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE NANOIMPRESSION ET COMPOSITION DE RÉSINE UTILISÉE DANS LE PROCÉDÉ DE NANOIMPRESSION
Abstract: front page image
(EN)[Objective] To enable suppression of contamination of molds by adhered matter and formation of resist patterns having sufficient etching resistance, in a nanoimprinting method.[Constitution] A nanoimprinting method employs a resist composition including polymerizable compounds and a polymerization initiating agent,each having absorption spectrum properties with absorption regions within a range from 250nm to 500nm. The polymerization initiating agent has an absorption region with a longer wavelength end wavelength (λi) longer than the longer wavelength end wavelength (λm) of the absorption region of the polymerizable compounds. Exposure of the resist composition is executed by light having spectral intensity properties that satisfy a predetermined relational formula.
(FR)L'objectif de l'invention est de permettre la suppression de la contamination de moules par de la matière adhérée et la formation de motifs de résine présentant une résistance à la gravure suffisante, dans un procédé de nanoimpression. À cet effet, l'invention propose un procédé de nanoimpression qui fait intervenir une composition de résine comprenant des composés polymérisables et un initiateur de polymérisation, chacun ayant des propriétés de spectre d'absorption avec des régions d'absorption situées dans une plage comprise entre 250 nm et 500 nm. L'initiateur de polymérisation comprend une région d'absorption présentant une longueur d'onde (λi) à longue extrémité plus longue que la longueur d'onde (λm) à longue extrémité de la région d'absorption des composés polymérisables. L'exposition de la composition de résine est effectuée par une lumière présentant des propriétés d'intensité spectrale qui satisfont une formule relationnelle prédéterminée.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)