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1. (WO2013047895) ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD EACH USING THE COMPOSITION, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, SEMICONDUCTOR DEVICE AND PRODUCTION METHOD OF RESIN
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/047895    International Application No.:    PCT/JP2012/075734
Publication Date: 04.04.2013 International Filing Date: 27.09.2012
IPC:
G03F 7/039 (2006.01), C08F 212/14 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM Corporation [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1060031 (JP)
Inventors: KAWABATA, Takeshi; (JP).
TSUBAKI, Hideaki; (JP)
Agent: TAKAMATSU, Takeshi; Koh-Ei Patent Firm, Toranomon East Bldg. 9F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Priority Data:
2011-215625 29.09.2011 JP
Title (EN) ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD EACH USING THE COMPOSITION, MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, SEMICONDUCTOR DEVICE AND PRODUCTION METHOD OF RESIN
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À UN RAYONNEMENT ACTINIQUE OU SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUE, COUCHE DE RÉSERVE ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF QUI UTILISENT CHACUN LA COMPOSITION, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR, DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE LA RÉSINE
Abstract: front page image
(EN)An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes: (P) a resin that contains (A) a repeating unit capable of decomposing upon irradiation with an actinic ray or radiation to generate an acid in a side chain of the resin (P) and (C) a repeating unit represented by the following formula (I) as defined in the specification, wherein a polydispersity of the resin (P) is 1.20 or less.
(FR)La présente invention se rapporte à une composition de résine sensible à un rayonnement actinique ou sensible aux rayons actiniques qui comprend : (P) une résine qui contient (A) une unité de répétition qui peut se décomposer lors de l'exposition à un rayon actinique ou à un rayonnement actinique afin de générer un acide dans une chaîne latérale de la résine (P) et (C) une unité de répétition représentée par la formule suivante (I) comme cela est défini dans la spécification, une polydispersibilité de la résine (P) étant égale ou inférieure à 1,20.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)