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1. (WO2013047851) NANOIMPRINTING METHOD, NANOIMPRINTING APPARATUS FOR EXECUTING THE NANOIMPRINTING METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING PATTERNED SUBSTRATES
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/047851    International Application No.:    PCT/JP2012/075272
Publication Date: 04.04.2013 International Filing Date: 21.09.2012
IPC:
H01L 21/027 (2006.01), B29C 59/02 (2006.01), G11B 5/84 (2006.01)
Applicants: FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventors: NAKAMURA, Kazuharu; (JP).
WAKAMATSU, Satoshi; (JP)
Agent: YANAGIDA, Masashi; YANAGIDA & Associates, 7F, Shin-Yokohama KS Bldg., 3-18-3, Shin-Yokohama, Kohoku-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2220033 (JP)
Priority Data:
2011-214420 29.09.2011 JP
Title (EN) NANOIMPRINTING METHOD, NANOIMPRINTING APPARATUS FOR EXECUTING THE NANOIMPRINTING METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING PATTERNED SUBSTRATES
(FR) PROCÉDÉ DE NANOIMPRESSION, APPAREIL DE NANOIMPRESSION POUR EXÉCUTER LEDIT PROCÉDÉ DE NANOIMPRESSION ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRATS À MOTIFS
Abstract: front page image
(EN)To enable a resist pattern having dimensions different by a desired percentage(ΔDall) from the dimensions of a pattern of a mold under predetermined standard conditions(Pst,Tst) to be formed. The Young's modulus(Em) and the coefficient of thermal expansion(αm) of the mold(1) are different from those(Ei,αi) of the substrate(7). Resist(6) is cured within a pressure vessel while the pressure P inside the vessel and the temperature T of the assembly(8) are controlled to satisfy the next formula. ΔDall=(1/Ei-1/Em)・(P-Pst)+(αm-αi)・(T-Tst)
(FR)L'invention consiste à permettre la formation d'un motif de résine présentant différentes dimensions par un pourcentage désiré parmi les dimensions d'un motif d'un moule dans des conditions standard prédéterminées. Selon l'invention, un procédé de nanoimpression consiste à utiliser un moule (1) ayant un motif fin de parties saillantes et d'évidements présentant des dimensions standard prédéterminées à une pression normalisée prédéterminée Pst et à une température normalisée prédéterminée Tst, et un substrat (7) à traiter. Le moule (1) et le substrat (7) à traiter présentent différents modules d'élasticité de Young et/ou différents coefficients de dilatation thermique. La résine (6) est durcie pendant que la pression P à l'intérieur d'un récipient sous pression (110) et/ou la température T d'un ensemble (8) sont régulées de manière à satisfaire une formule relationnelle prédéterminée lorsque le pourcentage de la différence dans les dimensions d'un motif de résine par rapport aux dimensions standard est désigné ΔDall, la pression standard est désignée Pst, la température standard est désignée Tst, le module d'élasticité de Young du moule est désigné Em, le coefficient de dilatation thermique du moule est désigné αm, le module d'élasticité de Young du substrat à traiter est désigné Ei, et le coefficient de dilatation thermique du substrat à traiter est désigné αi.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)