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1. (WO2013047799) PHYSICAL/CHEMICAL SENSOR, PHYSICAL/CHEMICAL PHENOMENON SENSING DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/047799    International Application No.:    PCT/JP2012/075182
Publication Date: 04.04.2013 International Filing Date: 28.09.2012
Chapter 2 Demand Filed:    20.05.2013    
IPC:
G01N 21/27 (2006.01), G01N 33/543 (2006.01), G01N 37/00 (2006.01)
Applicants: NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOYOHASHI UNIVERSITY OF TECHNOLOGY [JP/JP]; 1-1, Hibarigaoka, Tempaku-cho, Toyohashi-shi, Aichi 4418580 (JP)
Inventors: TAKAHASHI Kazuhiro; (JP).
SAWADA Kazuaki; (JP).
OYAMA Hiroki; (JP)
Agent: IKAWA Hirofumi; ALPS BLDG. 2F., 61-2, Shinmei-cho, Toyohashi-shi, Aichi 4400882 (JP)
Priority Data:
2011-218582 30.09.2011 JP
2012-114589 18.05.2012 JP
2012-172374 02.08.2012 JP
Title (EN) PHYSICAL/CHEMICAL SENSOR, PHYSICAL/CHEMICAL PHENOMENON SENSING DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) CAPTEUR PHYSIQUE/CHIMIQUE, DISPOSITIF DE DÉTECTION DE PHÉNOMÈNE PHYSIQUE/CHIMIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CEUX-CI
(JA) 物理・化学センサおよび物理・化学現象センシングデバイスならびにこれらの製造方法
Abstract: front page image
(EN)The present invention relates to a physical/chemical sensor, a physical/chemical phenomenon sensing device, and a method for manufacturing the same with which a minute change in surface stress may be detected, and size reduction and array configuration may be enabled. In the sensor of the present invention, a hollow portion (3) is formed at a surface of a light receiving surface (1a) of a photo diode (1). The sensor comprises a membrane portion (2) which is oppositely disposed, and the hollow portion is isolated airtightly and watertightly. The membrane portion has light permeability and flexibility, and forms a Fabry-Perot resonator with the surface of the light receiving surface. The sensing device of the present invention comprises a reference sensor, which comprises no hollow portion, in addition to the sensor. The manufacturing method of the present invention comprises forming a sacrificial layer at the light receiving surface of the photo diode, laminating an area other than a surface of the sacrificial surface with a protective film, forming the membrane portion at a membrane portion configuration area other than an etching target area, etching the sacrificial layer, and coating the etching target area.
(FR)La présente invention concerne un capteur physique/chimique, un dispositif de détection de phénomène physique/chimique et un procédé de fabrication de ceux-ci, avec lesquels un changement minuscule de contrainte de surface peut être détecté et une réduction de dimension et une configuration en réseau peuvent être permises. Dans le capteur de la présente invention, une partie creuse (3) est formée à une surface d'une surface de réception de lumière (1a) d'une photodiode (1). Le capteur comprend une partie membrane (2) qui est disposée de manière opposée et la partie creuse est isolée de manière étanche à l'air et de manière étanche à l'eau. La partie membrane a une perméabilité vis-à-vis de la lumière et une flexibilité et forme un résonateur Fabry-Perot avec la surface de la surface de réception de lumière. Le dispositif de détection de la présente invention comprend un capteur de référence, qui comprend une partie non creuse, en plus du capteur. Le procédé de fabrication de la présente invention comprend la formation d'une couche sacrificielle à la partie de réception de lumière de la photodiode, la stratification d'une zone autre qu'une surface de la surface sacrificielle avec un film protecteur, la formation de la partie membrane à une zone de configuration de partie membrane autre qu'une zone cible de gravure, la gravure de la couche sacrificielle et le revêtement de la zone cible de gravure.
(JA) 微小な表面応力の変化を検出することができ、小型化・アレイ化を可能にする物理・化学センサ、物理・化学現象センシングデバイスおよびこれら製造方法を提供する。センサは、フォトダイオード1の受光面1aの表面に中空部3を形成しつつ、対向して設けられた膜部2を備え、中空部は周囲から気密的または水密的に遮断され、膜部は、光透過性および可撓性を有し、前記受光面の表面とともにファブリペロー共振器を形成する。センシングデバイスは、センサのほかに中空部を有しない参照センサを設ける。製造方法は、フォトダイオードの受光面に犠牲層を生成する工程と、犠牲層の表面を除く領域に保護膜を積層する工程と、エッチング予定領域を除く膜部構成領域に膜部を生成する工程と、犠牲層をエッチングする工程と、エッチング予定領域を被覆する工程とを含む。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)