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1. (WO2013047605) FILM FORMATION METHOD AND FILM FORMATION APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau   

Pub. No.:    WO/2013/047605    International Application No.:    PCT/JP2012/074755
Publication Date: 04.04.2013 International Filing Date: 26.09.2012
IPC:
C23C 14/02 (2006.01), C23C 14/22 (2006.01)
Applicants: SHINCRON CO., LTD. [JP/JP]; 3-5, Minato Mirai 4-chome, Nishi-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2208680 (JP)
Inventors: SHIONO, Ichiro; (JP).
HAYASHI, Tatsuya; (JP).
JIANG, Yousong; (JP).
NAGAE, Ekishu; (JP).
MIYAUCHI, Mitsuhiro; (JP).
SAMORI, Shingo; (JP)
Agent: OHKURA, Koichiro; Showa-Kamakurabashi Bldg. 8F, 6-9, Uchikanda 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010047 (JP)
Priority Data:
PCT/JP2011/072586 30.09.2011 JP
PCT/JP2012/053099 10.02.2012 JP
PCT/JP2012/069714 02.08.2012 JP
Title (EN) FILM FORMATION METHOD AND FILM FORMATION APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM ET APPAREIL DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜方法及び成膜装置
Abstract: front page image
(EN)Provided is a film formation apparatus with which an anti-fouling film having high usability and anti-wear performance may be formed efficiently. According to a film formation apparatus (1) of the present invention, a substrate holder (12) which comprises a basal body holding surface for holding a plurality of substrates (14) is disposed in a vacuum container (10) in a rotatable manner. The film formation apparatus (1) comprises an evaporation source (34) which is disposed in the vacuum container (10) in such a manner that a larger amount of film formation material may be supplied to a first area (A3) that is part of the basal body holding surface than to an area other than the first area (remaining area) when operated toward the substrate holder (12) in a rotation stop state; and an ion source (38) which is disposed in the vacuum container (10) in such a manner, arrangement, and / or direction that energetic particle irradiation may be made toward only a second area (A2) that is part of the basal body holding surface when operated toward the substrate holder (12) in the rotation stop state.
(FR)L'invention concerne un appareil de formation de film avec lequel un film anti-salissure ayant une aptitude élevée à l'usage et une performance anti-usure élevée peut être formé de manière efficace. Conformément à un appareil de formation de film (1) de la présente invention, un porte-substrat (12) qui comprend une surface de support de corps basal pour supporter plusieurs substrats (14) est disposé dans un conteneur sous vide (10) d'une manière tournante. L'appareil de formation de film (1) comprend une source d'évaporation (34) qui est disposée dans le conteneur sous vide (10) d'une manière telle qu'une plus grande quantité de matière de formation de film peut être adressée à une première zone (A3) qui fait partie de la surface de support de corps basal par rapport à une surface autre que la première surface (surface restante) une fois actionnée vers le porte-substrat (12) dans un état d'arrêt de rotation ; et une source d'ions (38) qui est disposée dans le conteneur sous vide (10) d'une manière telle, dans un arrangement tel et/ou dans une direction telle qu'une irradiation de particule énergétique peut être effectuée vers seulement une seconde surface (A2) qui fait partie de la surface de support de corps basal lorsqu'elle est actionnée vers le porte-substrat (12) dans l'état d'arrêt de rotation.
(JA) 実用に耐えうることは勿論、耐摩耗性能がより高められた防汚膜を効率よく成膜することができる成膜装置を提供する。複数の基板14を保持するための基体保持面を持つ基板ホルダ12が真空容器10内に回転可能に配設された成膜装置1において、回転停止しているときの基板ホルダ12に向けて作動させた場合に、前記基体保持面の一部の領域である第1領域(A3)に対して、該第1領域以外の他の領域(残領域)よりも多い量の成膜材料を供給可能となる構成で真空容器10内に設置された蒸着源34と、回転停止しているときの基板ホルダ12に向けて作動させた場合に、その基体保持面の一部の領域である第2領域(A2)のみに向けてエネルギー粒子が照射可能となる構成、配置及び/又は向きで真空容器10内に設置されたイオン源38とを、有する構成の成膜装置1である。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)